Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS C-6000 #9248477 zu verkaufen

EATON NOVA / AXCELIS C-6000
ID: 9248477
Implanter.
EATON NOVA/AXCELIS C-6000 ist ein spezialisiertes Ionenimplantat und Überwachungsgerät. Es wurde entwickelt, um Halbleiterscheiben und integrierte Schaltkreissubstrate (IC) mit beschleunigten Ionen mit erhöhter Genauigkeit und Geschwindigkeit präzise zu dotieren. Das System verwendet eine fortschrittliche Ionenpistole für den Implantatprozess und hochauflösende Sensoren zur genauen Überwachung des Implantatprozesses. AXCELIS C-6000 besteht aus einer zweiachsigen Portaleinheit mit Linearmotoren zur ultrapräzisen Bewegung von Ionenquelle und Wafer, um eine ordnungsgemäße Positionierung in den X- und Y-Ebenen zu gewährleisten. Die Motorsteuerungen sind programmierbar und ermöglichen eine genaue Implantation des gewünschten Dotierstoffprofils. Die Ionenquelle, typischerweise eine Kaufman-Ionenquelle, wird für hochenergetische Ionenimplantate verwendet. Die Kaufman-Quelle bietet eine breite Palette von Ionenarten, die flexible Implantatprofile auf Substraten ermöglichen. EATON NOVA C-6000 verwendet eine hochauflösende Faraday Becherüberwachungsmaschine, um eine präzise Überwachung und Steuerung des Dotierungsprozesses zu ermöglichen. Mit diesem Faraday-Becherwerkzeug kann die Geschwindigkeit der beschleunigten Ionen genau gemessen und sofort gesteuert werden. Echtzeit-Informationen über die implantierte Dosis können aus dem Faraday-Becher gewonnen werden, was eine präzisere und genauere Prozesskontrolle ermöglicht. Neben der Faraday-Tasse verfügt C-6000 über einen fortschrittlichen Widerstandsmonitor zur Dosisbestimmung und -kontrolle. Dieses Modell verwendet einen Satz von vier parallelen Detektoren, um die implantierte Dosis in Echtzeit zu überwachen. Durch Vergleich des Ablesens der Detektoren mit vorgegebenen Werten kann die richtige Implantation einfach überwacht und gesteuert werden. EATON NOVA/AXCELIS C-6000 umfasst eine fortschrittliche Vakuumausrüstung, die die effiziente Nutzung von Ionenstrahlenergie für den Implantatprozess ermöglicht. Der Einsatz modernster Turbomolekularpumpen, eine ausreichende Auswahl an Pumpleitungen und hohe effektive Pumpgeschwindigkeiten sorgen für eine stabile Vakuumumgebung. Dieses System soll Implantataktivitäten bei niedrigeren Drücken ermöglichen, was die Vorhersagbarkeit und Genauigkeit des Implantatprozesses deutlich verbessern kann. AXCELIS C-6000 ist eine fortschrittliche Ionenimplantat- und Monitoreinheit, die eine genaue und schnelle Dotierung von Halbleiterscheiben und IC-Substraten ermöglicht. Es verwendet eine fortschrittliche Ionenpistole, eine hochgenaue Faraday-Becherüberwachungsmaschine und ein fortschrittliches Widerstandsüberwachungswerkzeug zur präzisen Dosierungssteuerung. Darüber hinaus sorgt eine fortschrittliche Vakuumanlage für eine effiziente Nutzung von Ionenstrahlen, um eine genaue Implantation der gewünschten Dotierungsstufen zu ermöglichen.
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