Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 #9173588 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9173588
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1992
Ion implanter, 6"
Energy 80kv or 160kv: 180 kV
15 ma system
Control system:
Sun workstation type: SPARC 5
Cell controller CPU PCB type: VME 177
Monitor size and type: LCD
Transformer: Oil
Device interface:
Ground electronic Dl rack: Yes, 1163960
Disk vac DI rack: Yes
Terminal beatline Dl rack: Yes, 1163962
Gas control rack: Yes
Source control DI rack: Yes
Dose control DI rack: Yes
Terminal electronic Dl rack: Yes
Main tower distribution DI rack: Yes
Terminal power distribution Dl rack: Yes
Ground power distribution DI rack: Yes
Disk thermal couple Dl rack: Yes, 1187280
Loadlock control DI rack: Yes, 1176551
Gas box:
Source cabinet: Yes
Gas lines (3 or 4 line): Non module
Gas type: HP or SDS
Line 1 HP (Ar) 1510A
Line 2 SDS (BF3) 8162
Line 3 HP (AsH3) 1501A
Line 4 SDS (PH3) 8162
Source / Terminal:
Source head type or P/N: Bernus
Extraction electrode type or P/N: 1153600, Old type
Extraction power supply P/N: OL8000HV unit 100W
Source rough pump type: No
Source Hi-Vac pump type: Diffusion pump
Beam guide P/N: Yes, Old type
P8 Turbo pump type: No
Dual vaporizer: No
Filament power supply: Yes
Vaporizer power supply: Yes
Arc power supply: Yes
Source suppression power supply: Yes
Analyzer magnet power supply: Yes
Source magnet power supply: Yes
Quadruple power supply: No
Quadrapole assy: No
Resolving / Endstation:
Post accel suppression power supply: Yes, -5 kV,100mA
Post accel high voltage power type: OL8000/104/05
Post accel electrode assy: Yes, 1165340
Post accel tube assy: Yes
Electron shower: Yes, E-show / Old type
Shower power supply P/N: Yes, 1168391
Electron shower gas bleed assy: No
Whole enclosure door: Yes
Wafer transfer controller type P/N: Old type-ASYNC
Robot controller type or P/N: Old type-ASYNC
Loadlock controller type or P/N: Yes, 1176551
Rotary controller type or P/N: 1169071, Belt type
Y-Scan controller type or P/N: Yes, 1169081
Gyro controller type or P/N: Old type-ASYNC, 1168391
Cryo pump P2 / On board: CTI Torr 8
Cryo pump P3 / On board: CTI Torr 10
Cryo pump compressor type: 8200 9600
Disk chiller type: Yes, HX-150
RP2 for P2 / P3 / Beamline / Process / Loadlock: No
RP3 for sliding seal: No
P9 Cryo pump / Compressor: No
Wafer buffer: No
Belt type
Current:
(2) HP
(2) SDS
Disk size: 6" (old type) 1173936
Manual / Drawing: No
Power requirements: 208 V, 50/60 Hz, 3-phase, 50 kVA
Currently de-installed and warehoused
1992 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 ist ein schwerer Ionenimplantator und -monitor für die Halbleiterindustrie. Es wird verwendet, um Ionen in eine Vielzahl von Materialien zu implantieren, einschließlich Silizium, Siliziumdioxid, Germanium, Zinn, Wolfram, Gallium und Aluminium. Das Gerät verfügt über eine Ionenquelle mit variablen Ionenstrahlströmen von bis zu 400 μ A und einen großflächigen X-Y-Scanner zur genauen Positionierung des Strahlflecks. Es verfügt auch über eine hochauflösende, schnelle Steuerung für präzise Implantation. AXCELIS GSD 200 ist in der Lage, die Ionenimplantation auf einer breiten Palette von Substraten durchzuführen, was es ideal für die Herstellung sehr kleiner und komplexer Gerätestrukturen macht. Das Gerät kann Geräte von wenigen Mikrometern bis zu mehreren Millimetern Größe verarbeiten. Es bietet High-End-Leistung, mit niedrigen Verarbeitungstoleranzen und konstanter Gleichmäßigkeit, so dass es für die zuverlässige Produktion von hochentwickelten Geräten geeignet ist. Das Gerät ist mit einem vollautomatischen Vakuumsystem ausgestattet, um die Niederdruckanforderungen der Implantation zu erfüllen. Für zusätzliche Sicherheit verfügt das Gerät über eingebaute Sicherheitsverriegelungen. Für die Online-Analyse der Partikel in der Kammer während der Implantation setzt sie auch auf eine automatische Partikelüberwachungseinheit (APMS). EATON NOVA GSD 200 wurde entwickelt, um Benutzerfreundlichkeit für den Benutzer zu bieten. Es kommt mit intuitiven grafischen Benutzeroberflächen und Multi-Level restriktive Zugriffsverwaltung. Steuereinstellungen und andere Parameter können direkt über die Touchscreen-Schnittstelle eingestellt werden. Neben der Implantation ist GSD 200 auch in der Lage, das implantierte Wafered in situ zu überwachen und zu analysieren. Es ist mit fortschrittlicher Wafer-Bildgebungstechnologie ausgestattet, die eine Visualisierung des Wafers vor, während und nach dem Ionenimplantationsprozess ermöglicht. Das Gerät verfügt auch über eine aktuelle digitale Überwachungsmaschine, die detaillierte Informationen über die Prozessparameter und die Waferleistung aufzeichnet, wie Routenhistorien und Dosierscans. Diese Daten können vom Benutzer zur Fehlerbehebung und Optimierung von Prozesstransienten verwendet werden. EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 ist eine begehrte Wahl für die Hochleistungsproduktion komplexer Konstruktionen. Es bietet eine zuverlässige Plattform für die Herstellung hochpräziser Halbleiterbauelemente, die den Anforderungen fortschrittlicher Technologie entsprechen.
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