Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 #9262469 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 ist ein fortschrittlicher Ionenimplantator und -monitor für den Einsatz in Halbleiterproduktionsanlagen. Die Ausrüstung ist in der Lage, hochwertige, zuverlässige Implantate mit hoher Energie, niedriger Energie und extrem niedrigen Energie-Ionen für den Einsatz in einer Reihe von Prozessen zur Verfügung zu stellen. Dieses System ist aufgrund seiner überlegenen Genauigkeit und Präzision besonders effektiv für die Ionenimplantation von Halbleitersubstraten und -schaltungen. AXCELIS GSD 200 ist mit einem robusten Ionenmonitor ausgestattet, der eine Echtzeit-Überwachung der Ionendosis, des Profils und der Neigungsparameter ermöglicht. Dieser Monitor liefert genaue Messungen der Zieldosis und des Gesamtdosierungsprofils, um die Präzision und Genauigkeit des Implantats zu gewährleisten. EATON NOVA GSD 200 enthält auch eine Vakuumeinheit, so dass jede Erwärmung oder Ionenimplantation des Substrats in einer Vakuumumumgebung durchgeführt werden kann, die außerdem die Genauigkeit und Leistung der Maschine gewährleistet. Darüber hinaus nutzt GSD 200 hochauflösende bildgebende Funktionen als Teil seines Ionenimplantationsprozesses. Diese Bildgebung ermöglicht es dem Anwender, den Fortschritt des Implantationsprozesses zu visualisieren und ihnen eine größere Kontrolle über die Implantatparameter und optimierte Ionen für die spezifische Anwendung zu geben. Das Tool verfügt auch über eine Reihe von erweiterten Sicherheitsfunktionen, um sowohl den Benutzer als auch das Gerät selbst vor Gefahren im Zusammenhang mit der Ionenimplantation zu schützen. Insgesamt ist EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 ein fortschrittlicher und zuverlässiger Ionenimplantator und -monitor, der für den Einsatz in Halbleiterproduktionsanlagen entwickelt wurde. Es liefert genaue Implantate sowohl von hochenergetischen als auch von niederenergetischen Ionen in einer kontrollierten Vakuumumgebung und mit der Fähigkeit, genau überwacht zu werden. Es enthält auch hochauflösende bildgebende Funktionen, um die Genauigkeit des Implantationsprozesses zu gewährleisten. Es ist ein wertvolles Werkzeug für jede Halbleiterproduktionsanlage und bietet Anwendern die notwendigen Genauigkeits- und Messwerkzeuge für eine Vielzahl von Ionenimplantationsanwendungen.