Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 #9395836 zu verkaufen

ID: 9395836
Wafergröße: 6"
Implanter, 6" Gases: B / As / Ar Energy: 200 keV Throughput: 210 Pieces / Hour 25-Slots cassettes (4) Cassettes ELS Source head (2) Sun workstations VME 177 Cell controllers (2) SDS Gas lines (ASH3 and PH3) (2) HEWLETT-PACKARD Gas lines (BF3 and Argon) P-Shower electron Post acceleration high voltage, 80 keV Belt type rotary drive Variable implant angle 2-Axis Real time patented dose controller Dose range: 5E11~1E16 Ions / cm² Arm: Standard, 8" Wafer holder: Standard, 8" Beam energy: 1 MeV Beam current: 1 mA CE Marked Power supply: 208 V, 3-Phase, 170 A.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 ist ein Hochleistungs-Ionen-Implantierer und -Monitor, der den Anforderungen der Halbleiter-, Medizin- und Wissenschaftsindustrie gerecht wird. Es wurde entwickelt und gebaut, um die strengsten globalen Standards für Qualität und Leistung in den Ionenimplantations- und Überwachungsprozessen einzuhalten. AXCELIS GSD 200 ist in der Lage, bei hohen Temperaturen, Spannung und Strom zu arbeiten, um eine überlegene Leistung und Konsistenz von Implantatprofilen und -profilen zu erreichen. Es verfügt über ein modernes und leistungsstarkes Kontrollgerät, das in der Lage ist, die Ionenstrahlparameter, insbesondere Implantatdosis, Substrattemperatur und Beschleunigungen, präzise zu steuern, um außergewöhnlich einheitliche und wiederholbare Strahleigenschaften zu gewährleisten. Das System bietet auch eine breite Palette von optionalen Funktionen für eine verbesserte Kontrolle des Implantationsprozesses, einschließlich Strahllenkung, Datenerfassung, optische Tore und andere Funktionalitäten. Neben überlegener Leistung ist EATON NOVA GSD 200 auch sehr energieeffizient und nutzt einen Niederspannungsbetrieb, um eine verbesserte Leistung mit weniger beweglichen Teilen und Komponenten zu bieten. Dadurch wird der Stromverbrauch deutlich reduziert, was zu einem energieeffizienten Betrieb führt. Darüber hinaus bietet das Gerät durch seine fortschrittlichen Überwachungssysteme wie Strahlung und Gasüberwachung, Vakuummessung und seine hochempfindliche Implantat-Profilüberwachungsmaschine hervorragende Prozessüberwachungsfunktionen. Dies gewährleistet eine präzise Kontrolle des Implantationsprozesses, was die Produktausbeute und Prozesseffizienz verbessert. Insgesamt ist GSD 200 ein hochwertiger und hoch energieeffizienter Ionenimplantator und -monitor, der in der Lage ist, Implantatparameter, Prozessüberwachung und erweiterte optionale Funktionen für eine verbesserte Prozesskontrolle genau zu steuern. Es wurde entwickelt, um die höchsten globalen Standards für Qualität und Leistung zu erfüllen und bietet eine verbesserte Produktausbeute und Prozesseffizienz.
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