Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 #9399024 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 ist ein Hochleistungs-Ionen-Implantierer für die Halbleiterindustrie, der ein hochpräzises, qualitativ hochwertiges Implantat-Verfahren bietet. AXCELIS GSD 200 verwendet leistungsstarke Ionenquellen, um Dotierstoffe mit einem relativ hohen Kontrollgrad in das Substratmaterial einzuführen. Hierdurch wird sichergestellt, daß Dotierstoffe mit der erforderlichen Genauigkeit und in den gewünschten Verhältnissen in der Substratschicht abgeschieden werden. EATON NOVA GSD 200 ist für ultimative Automatisierung und Wirtschaftlichkeit konzipiert, mit einer „Direct Substrate Increase“ (DSI) -Technik, bei der die Ionenquelle schnell erhöht werden kann und schnellere und konsistentere Implantatdosen ermöglicht werden. Die fortschrittliche Ausrüstung des GSD 200 überwacht den Ionenstrahl-Strom und ermöglicht eine präzise und genaue Dosiskontrolle. Dieses System ist für die Verarbeitung eines großen Bereichs von Substratdicken mit den höchsten Ionenstufen bis zur größten Anzahl von Substraten ausgelegt. EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 ist eine sehr zuverlässige, robuste Einheit mit einer langen Lebensdauer. Es ist darauf ausgelegt, die Ionenquellen genau zu steuern und einen gleichbleibenden Strahl über dem Substrat zu gewährleisten, unabhängig von der Dicke. Darüber hinaus ermöglicht eine patentierte Flussüberwachungsmaschine eine optimale Leistung bei der Plasmareinigung der Substratoberfläche. Durch qualitativ hochwertiges Sputtern werden die nativen Oxide auf den Substraten gereinigt und die Schicht für die einzubringenden Ionentröpfchen empfänglich. Die physikalische Zusammensetzung des AXCELIS GSD 200 Werkzeugs zeichnet sich durch modernes Design aus. Es verfügt über eine patentierte, scheibenförmige Ringquellentechnologie, eine robuste und leistungsstarke Elektronenkanone für hohe Ionenströme, eine fortschrittliche Röntgendiagnostik in Form von azimutalen Scans und vertikalen Profilen der implantierenden Strahlen und eine ganze Reihe fortschrittlicher Steuerungssysteme, um die Genauigkeit zu gewährleisten. EATON NOVA GSD 200 ist in der Lage, bis zu 8 Ionen gleichzeitig zu implantieren und bietet eine präzise Ausrichtung, um Profiltreue zu gewährleisten. Insgesamt ist GSD 200 ein hochwertiges Implantat, das den genauesten und kostengünstigsten Implantatprozess in der Halbleiterindustrie bietet. Die fortschrittlichen Ionenquellen, die breite Palette an Substratdicken und die konsistente Strahlsteuerung machen es zu einer idealen Wahl für jeden Implantationsprozess. Das hochmoderne Design von EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 und seine lange Lebensdauer machen es zu einem entscheidenden Kapital für die Produktionslinie.