Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #293801979 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2 ist ein hochdosierter, hocheffizienter Ionenimplantator und -monitor für Halbleiter und verwandte Anwendungen. Es handelt sich um eine Mehrstrahl-Multiapertur-Ionenquelle, die eine hochpräzise, wiederholbare Dotierung von Submikron-Merkmalsgrößen ermöglicht. Es bietet 10-mal höhere Dosisraten als herkömmliche Implantate und mehr als das 5-fache der Prozessgleichförmigkeit. AXCELIS GSD 200E-2 verwendet AXCELIS patentierte E-Brechungsstrahl-Optik-Geräte, um überlegene Implantat-Gleichmäßigkeit mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu bieten. Das System greift die Elektronenstrahlen aus mehreren verschiedenen Richtungen an, um ein gleichmäßigeres homogenes Dosisfeld über die Probengröße bereitzustellen. Es verwendet auch eine fortschrittliche Magnetfeldeinheit für eine einheitliche Strahlenergieverteilung (BED). EATON NOVA GSD 200 E2 ist ein hochpräziser Implantator, der zu Implantaten mit mindestens ± 2,5% relativer maximaler Dosisgleichförmigkeit und einem kurzen Strahlfenster von 10mm x 10mm in der Lage ist. Es verfügt über ein Standardprozessfenster von bis zu 150 mm x 150 mm (optional bis 200 mm x 200 mm). Es kann auch für bis zu 5 Strahlen konfiguriert werden und arbeitet bei bis zu 50kV. Die Bordüberwachungsmaschine ermöglicht es den Bedienern, den Implantationsfortschritt zu überwachen. Eine breite Palette von Diagnosewerkzeugen sind verfügbar, wie Echtzeit-Plotting der Strahlposition und Fokusasymmetrie, Strahlstrom und Energieüberwachung. Darüber hinaus können bis zu vier externe Kameras und Hochfrequenzdetektoren an die Maschine angeschlossen werden, um Anomalien oder Unregelmäßigkeiten zu erkennen. AXCELIS GSD 200 E2 bietet auch eine breite Palette von Sicherheitsmerkmalen, wie ein automatisches Sicherheitsabschaltwerkzeug, das die Maschine bei Ausfall sicher deaktiviert. Zusätzlich werden alle Benutzereingaben und Maschineneinstellungen zur zukünftigen Referenz aufgezeichnet. Dies gewährleistet präzise und wiederholbare Installationen für zukünftige Anwendungen. Insgesamt ist GSD 200 E2 ein ideales Ionenimplantator und Überwachungswerkzeug für Halbleiteranwendungen. Die hohen Dosisraten, präzise und wiederholbare Prozesse, umfassende Überwachung und erweiterte Sicherheitsfunktionen sorgen für eine zuverlässige und sichere Dotierung der Submikron-Funktionsgrößen.