Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #293813023 zu verkaufen

EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2
ID: 293813023
Wafergröße: 6"
Ion implanter, 6".
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2 ist ein Ionenimplantator und -monitor, der von EatonAXCELIS Technologies entwickelt wurde, um den Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht zu werden. Es ist ein vielseitiger, leistungsstarker Implantierer, der speziell für den Einsatz mit einer Vielzahl von Wafergrößen und -materialien entwickelt wurde. Dieses Gerät beschleunigt Ionen auf die Waferoberfläche, die dann in die Waferoberfläche eindringt und die Ionen implantiert werden. AXCELIS GSD 200E-2 verfügt über ein hocheffizientes Vakuumsystem zur Verhinderung von Implantatvergiftungen. Es verfügt über zwei Turbopumpen, zwei Hochwasserpumpen, zwei raue Pumpen und zwei Schieber sowie einen Satz Ionenpumpen. Die Ionenpumpen halten den Kammerdruck niedrig genug, um implantieren zu können. EATON NOVA GSD 200 E2 enthält auch eine Gasfördereinheit, die zur Steuerung des Gasflusses zur Waferoberfläche verwendet wird und eine gleichmäßige Dosis der in den Wafer implantierten Spezies gewährleistet. EATON NOVA GSD 200E-2 verfügt über einen Betriebsdruckbereich von 1 × 10-7 bis 1 × 10-5 Torr oder Pa und einen Waferdurchmesserbereich von 2 Zoll bis 7,5 Zoll. Es ist auch in der Lage, bis zu 30 Kilo Elektronenvolt (keV) Ionen und einen maximalen Quellstrom bis zu 100 Milliamp (mA) zu versorgen. EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E-2 ist mit einem Host-Computer und einer Software ausgestattet, die den Implantierer steuert und Echtzeitdaten überwacht. Die Software wird verwendet, um die Dosis, Arten und andere Parameter für die Implantation zu programmieren. Der Computer enthält außerdem einen geometrischen Prozessor zur Gewährleistung der Genauigkeit an jedem Zielpunkt sowie eine Mapping-Software zur Anzeige der Dosisverteilung. Es verfügt auch über eine Reihe von Sicherheitsfunktionen, um unbefugten Zugriff zu verhindern. GSD 200E2 verfügt über ausgeklügelte Sicherheitsmerkmale wie das Ionenquellen-Sicherheitsmodul und die Ionenevakuierungsmaschine, um maximale Sicherheit für das Personal zu gewährleisten. Das Sicherheitsmodul überwacht den Kammerdruck und den Gasstand und schaltet das Werkzeug dann automatisch ab, wenn die Parameter nicht in akzeptablen Grenzen liegen. Die Ionenevakuierungsanlage evakuiert schnell Implantationsprodukte, um eine sichere Umgebung zu erhalten. GSD 200E-2 ist ein fortschrittliches Modell, das den Anforderungen der Branche an Präzision, Effizienz und Genauigkeit gerecht wird. AXCELIS GSD 200E2 ist mit seinen ausgeklügelten Sicherheitsmerkmalen, der überlegenen Ionenlieferausrüstung und der Echtzeitüberwachung ein sehr nützliches Werkzeug in der Halbleiterproduktion.
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