Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #293815735 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2 ist ein Hochleistungs-Ionenimplantator und -monitor. Es ist für Niederenergie-Implantate ausgelegt und kann mit bis zu 4 kW Strahlstrom hochenergetisch betrieben werden. Die Maschine ist mit einer großen Reihe von Kontrollsystemen und Algorithmen ausgestattet, um Präzision und Genauigkeit des implantierten Materials zu gewährleisten. AXCELIS GSD 200E-2 ist mit einem mehrachsigen Ionenstrahl (TIB) ausgestattet, der schnelle, hochpräzise Scans der Waferoberfläche und die Implantation von Ionen in das Zielmaterial ermöglicht. Dieses System kann digital manipuliert werden, um eine sehr genaue und gleichmäßige Dosierung mit hoher Dosisstabilität und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Der Ionenstrahl wird durch aktive Strahlstromregelung und Stabilisatoren weiter verbessert, um maximale Präzision zu gewährleisten. EATON NOVA GSD 200 E2 ist ein benutzerfreundliches System mit einer grafischen Benutzeroberfläche (GUI), die Echtzeit-Anzeigen von Prozessparametern und Daten bietet. Dies ermöglicht eine einfache Überwachung und Anpassung des Implantatprozesses. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer Vielzahl von Sicherheitsfunktionen ausgestattet, die den Benutzer, die Ausrüstung und das zu implantierende Produkt schützen. GSD 200 E2 ist auch mit einer Reihe von Optionen zur Qualitätskontrolle ausgestattet, einschließlich Querschnitt Ionenstrahl-Scan-Mikroskopie, Spektralanalyse, Energie und Topographie-Messung. Diese Palette von Optionen ist wichtig für die Optimierung der Qualität der von der Maschine gelieferten Ergebnisse und für die Qualitätssicherung und Überwachung von implantierten Proben. Insgesamt ist AXCELIS GSD 200 E2 ein leistungsstarkes und effektives Werkzeug zur energiereichen und energiereichen Ionenimplantation und -überwachung. Seine hohe Leistungsabgabe und Qualitätskontrolle machen es zu einer idealen Wahl für industrielle Verarbeitungsanwendungen. Seine benutzerfreundlichen GUI und Sicherheitsfunktionen bieten eine sichere und zuverlässige Palette von Optionen, die den Ionenimplantationsprozess optimieren und die Genauigkeit, Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit für eine Reihe von Materialien verbessern können.