Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #9026352 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9026352
Ion implanter, 8"
(13) Batch wafers
Application process: High current implanter
System software Version: 4.9.1 (Sun OS)
Utility gas:
CDA, Machine air, Swagelok, 3/8" Sus male
Ar, Process air, Swagelok, 3/8" Sus male
PN2, Process vent, Swagelok, 3/8" Sus male
GN2, Purge vent, Swagelok, 3/8" Sus male
Exhaust:
(2) Environment, GEX, 500 CFM, 8" PVC, has exhaust hood
(2) RP Exhaust, SEX, 2" Sus, has exhaust hood
(1) Cyro pump, SEX, 20 CFM, 2" Sus, no exhaust hood
(1) Gas cabinet, SEX, 500 CFM, 8" PVC, 1, has exhaust hood
(1) Source cleaning exhaust, SEX, 65, 2.5" PVC, no exhaust hood
Cooling water:
(2) RP Cooling water, 14~28 psi, 5~8 GPM, 24º C, 3/8"
(1) City water, 55~75 psi, 7.5 GPM, 24º C, 1", to DI cooling water
(1) Cyro compressor, 14~28 psi, 5~8 GPM, 24º C, 1"
Endstation module:
(4) Cassette table (280 mm)
(2) Load buffer
(1) Dummy buffer
Mini-environment: Synetics
ATM Robot: OK
Notch/Flat finder: Notch type
Vacuum cassette: STD (VESPEL Support pin)
Load port interface: N/A
Beam profile oscilloscope: Tektronix TDS 210
Cell controller/version: Cell 177 (1915690, Rev. A)
Loadlock type: STD
Main SUN computer: Sparc station 5
Main monitor: 17", LCD
Second SUN computer: Yes (function unknown)
Second SUN monitor: N/A
Tape reader: NG
Printer: N/A
Process module:
Disk: Seg Si Coated, P/N: 11027061
Flag faraday with SRA: OK (11019550)
Electron/plasma shower: P-shower (1190160)
Plasma shower filament PS: Yes (EMS)
Bias aperature: Yes
Shower gas panel: Yes (STEC SEC-7320, 2 sccm)
Water bleed MFC: MKS (Type: 1150)
Ar/Xe Beamguide gas: Motor control
In-Vac arm: Yes
Wafer holder: Yes
Disk wafer clamp/unclamp: Roller type (1180270)
Gyro/Angle: NV-GSD-100
Linear drive: OK
Rotary drive: Direct drive
HYT Sensor: Yes (20SX)
Beam profile holes: N/A
Disk RGA Port: Yes
Resolving housing RGA Port: N/A
Wafer charge sensor: Yes
P-Shower charge monitor: Yes
P-Shower disk current: Yes
Loadlock controller type: 4-Axis DI
In-air wafer xfer controller: 4-Axis DI
Robot controller: 4-Axis DI
Beamline module:
HV Power supply: Hitek Power Inc.
HV Stack: OL8000/104/30, 100 KV
Post Accel. Volt: N/A
Extraction suppression PS: Glassman, PS/NV-15NN33, 2200158
AMU: Acelis
AMU PS: EMS 40-150-2-D0816
Hall probe: Axcelis
Max. extraction voltage: 90 KeV
Beam profiler hole: N/A
Decel function: N/A
Beamline purge kit: N/A
Source module:
Source head/vaporizer: ELS/No vaporizer
Filament PS: EMS 10-60
Arc PS: EMS 150-7
Cathode PS: yes
Vaporizer PS: N/A
Source magnet: Axcelis
Source magnet PS: EMS 25-25
Source bushing: Orange
Extraction assembly: Yes
Variable resolving aperture: Yes
Source ISO Transformer: STD
Source injection kit: N/A
Source cleaning exhaust: Yes
Block type: N/A
Gas box module:
Gap Loop #1: Ar, HP
Gap Loop #2: BF3, SDS
Gap Loop #3: AsH3, SDS
Gap Loop #4: PH3, SDS
Loop #1 MFC: MKS 1179A-14493, Ar, 10 sccm
Loop #2 MFC: MKS 1640A-011, BF3, 10 sccm
Loop #3 MFC: MKS 1640A-011, AsH3, 10 sccm
Loop #4 MFC: MKS 1640A-011, PH3, 10 sccm
Vacuum system:
P1/Source turbo: A2203C, SEIKO SEIKI
P1 Controller: STP-A2203C, SEIKO SEIKI
P2/Beamguide Cyro pump: CTI OB-8
P3/V3 Cyro pump: CTI OB-10
P9/Disk Cyro pump: N/A
RP1: Remote
RP2: Remote
IG1: SUZUKI G-75-NTT
P IG1: SUZUKI G-75-NTT
IG2: SUZUKI G-75-NTT
IG3: Stabile ion gauge
IG Controller: M/N: 360
Safety options:
(4) Smoke detectors
VESDA: N/A
CES Options: N/A
Others:
(2) Ground bars
Enclosures: OK
Ground indication lamp: N/A
INO Kit: N/A
Drawings/Manuals: N/A
SECS/GEM Function: OK
System 24V UPS: N/A
Light tower: G/Y/R
SPC Function: OK
Does controller pcomp. algorithm type: Turbo dose DI (1526990)
Spare parts: N/A
Alignment tools: N/A
Sub-systems:
Main Transformer: TAVR, 3 Phase, 60 Hz, 50 KVA, Pri. 440 V
RP1: Ebara, A70WN
RP2: Ebara, A70W
Compressor 1: CTI_CRYOGENICS, 9650
Input power: 208 V, 60 Hz, 3 Phase, 95 A, 35 KVA
Output power: 90 KeV, 20 mA
2001 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2 ist ein Ionenimplantator und -monitor, der von AXCELIS, einer Abteilung von EATON NOVA Technologies, Inc. entwickelt wurde. Es bietet überlegene Leistung, Zuverlässigkeit und Vielseitigkeit für Ionenimplantationsprozesse. AXCELIS GSD 200E-2 bietet eine breite Palette von Implantattiefen und -durchmessern bis zu 8 kV bzw. 3,0 T/m. Es verfügt über ein geschlossenes Beamline-Design und ist mit Quell- und Beamline-Gasanlagen ausgestattet. Die von außerhalb der Strahllinie geregelten Gassysteme sorgen für optimale Partikelenergie, Arbeitsdruck, Winkelform und Position des Filaments. EATON NOVA GSD 200 E2 ist mit einem hochmodernen Steuerungssystem für den manuellen und automatisierten Betrieb ausgestattet. Über das Touchpanel-Display kann der Benutzer den Kammerdruck, die Filamente und die Einstellungen steuern. Es verfügt auch über eine integrierte Diagnosefunktion, die es dem Bediener ermöglicht, das System in Echtzeit und aus der Ferne zu überwachen, einschließlich Temperatur, Spannung und Gasniveau. EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E-2 ist mit einem abnehmbaren mechanischen Verschluss gebaut, der zusätzliche Sicherheit und Genauigkeit bietet. In Bezug auf Sicherheit und andere Leistungsmerkmale ist AXCELIS GSD 200 E2 mit einem akustischen Gehäuse sowie Strahlungs- und Vakuumgehäusen ausgestattet, die die Sicherheitsanforderungen der Halbleiterverarbeitung erfüllen. AXCELIS GSD 200E2 ist der einzige Ionenimplantator und -monitor, der in der Lage ist, schnelle und präzise Messungen im Hochleistungs-Implantat-Servicemarkt zu liefern. GSD 200E2 bietet nicht nur präzise Implantationen, sondern überwacht und steuert auch die Umwelt während des gesamten Prozesses. Es ist in der Lage, Teilchenbahnen, Strahlprofile und statistische Parameter zu erkennen und darauf zu reagieren. Mit fortschrittlichen Sensoren und Softwaredesign ist das System in der Lage, präzise Implantationsleistung und weniger Partikelschäden zu gewährleisten. Darüber hinaus ermöglicht EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 E2 eine enge Implantation von kleineren Partikeln. Dies ist wesentlich für technische Prozesse, wie MEMS und andere Mikrogeräteherstellung. EATON NOVA GSD 200E-2 verfügt auch über eine breite Palette von Partikeltypen und -größen, sowie Hochgeschwindigkeitswechsel zwischen verschiedenen Ionenarten. Mit hoher Genauigkeit und minimalem Abbau ist GSD 200E-2 der leistungsstärkste Ionenimplantator und Monitor auf dem Markt.
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