Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #9312589 zu verkaufen

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ID: 9312589
High current implanter, 8" SMIF System: Interface Handle systems: SDLC System In air robot Load buffer Dummy buffer Vacuum cassette Tilt stand Notch aligner Process chamber: Batch Disk 13-pads, 8" In-vacuum arm Wafer holder AFFINITY Disk chiller AFFINITY Single close loop cooling chiller Vacuum system: CTI-CRYOGENICS 8200 Cryo compressor CTI-CRYOGENICS 9700 Cryo compressor CTI-CRYOGENICS OB 8 Beam line cryo pump CTI-CRYOGENICS OB 10 Beam line cryo pump No process cryo pump EDWARDS STP-2203C Source high vacuum pump EDWARDS QDP Rough pump HCIG Vacuum gauge controller End station: 4-Cassette table Wafer aligner type: Notch aligner Wafer handling system: In air / In vacuum high throughput Particle filter system: Class 1 UPLA Implant angle: 2-Axis variable: ± 7° Quad implant capability Process disk spindle: GSD Direct drive Beam monitor system: In situ beam potential monitor Real-time patented dose control Real-time beam profiler (1D) Process disk: Silicon coated UHD small radius fences Process disk cooling interlock ASYST LTP2000 SMIF Interface Gas box option: Modular gas box / 4-Strings option 1 HP (MFC Unit 1660) 3 SDS (MFC Unit 1662) Extraction power supply: 90 keV Extraction voltage monitor Vaporizer Ion source: ELS Source bushing: Extended life bushing Extraction electrode: Type 34 Source injection kit AMU System: Triple index Post accel power supply: 90 keV Post accel electrode Terminal isolation transformer: Dry transformer Bias aperture assembly Flag faraday Secondary electron flood gun: PEF Control UPS Main isolation transformer Smoke detector Exhaust flow switch Water leak sensor Light tower No real-time particle detection Earthquake retrofit SUN Solaris operator workstation Hard Drive Drive (HDD) LCD Monitor, 21" SECS I and SECS II Protocols GEM Interface and Ethernet ports CIM: Solaris 2006 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2 ist eine Ionenimplantat- und Überwachungsausrüstung, die für eine überlegene Ionenimplantationsleistung, Prozesskontrolle und Einheitlichkeit entwickelt wurde. Das System bietet eine Vielzahl von Konfigurationen für die Hochenergie-Ionenimplantation von ionisierten und nicht-ionisierten Spezies mit hervorragender Leistung und Genauigkeit. AXCELIS GSD 200E-2 ist eine mehrachsige Einheit, die eine 2-achsige Scan- und Beschleunigungsmaschine mit einem 4-achsigen Servo-Bewegungswerkzeug zur gezielten und optimierten Ionenimplantation kombiniert. Die Anlage verwendet eine 200 mm Durchmesser HF-angetriebene Implantationskanone, um Ionen in einem glatten, gleichmäßigen Profil über die Substratoberfläche zu produzieren. Die Bewegung der Pistole wird durch fortgeschrittene Servoregler und unabhängige Magnetfelder erreicht. Das Modell ist mit einem Borddetektor zur Überwachung des Implantationsprozesses ausgestattet. Dieser Detektor kann auch in Kombination mit speziellen Überwachungsstrategien zur Kontrolle der Implantationsrate und Gleichmäßigkeit verwendet werden. EATON NOVA GSD 200 E2 wurde entwickelt, um den hohen Anforderungen der modernen Halbleiterverarbeitung gerecht zu werden. Es entspricht strengen Sicherheitsvorschriften und ist mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, um die Anwender sowohl vor dem Risiko von Strahlung als auch vor den potenziell gefährlichen Materialien zu schützen, die im Implantationsprozess verwendet werden. Darüber hinaus ist die Anlage mit branchenführenden Automatisierungsfunktionen ausgestattet, die eine einfache Bedienung und Optimierung des Implantationsprozesses ermöglichen. Insgesamt ist EATON NOVA GSD 200E-2 ein zuverlässiges, kontrollierbares und genaues Ionenimplantationssystem, das hervorragende Ergebnisse liefert. Es bietet eine breite Palette von Fähigkeiten, einschließlich Hochenergie-Ionen-Implantation von ionisierten und nicht-ionisierten Arten, ausgezeichnete Prozesskontrolle und komfortablen Betrieb. Das Gerät erfüllt auch strenge Sicherheitsanforderungen und gewährleistet eine angenehme und sichere Arbeitsumgebung.
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