Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #9312589 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9312589
High current implanter, 8"
SMIF System: Interface
Handle systems:
SDLC System
In air robot
Load buffer
Dummy buffer
Vacuum cassette
Tilt stand
Notch aligner
Process chamber:
Batch
Disk 13-pads, 8"
In-vacuum arm
Wafer holder
AFFINITY Disk chiller
AFFINITY Single close loop cooling chiller
Vacuum system:
CTI-CRYOGENICS 8200 Cryo compressor
CTI-CRYOGENICS 9700 Cryo compressor
CTI-CRYOGENICS OB 8 Beam line cryo pump
CTI-CRYOGENICS OB 10 Beam line cryo pump
No process cryo pump
EDWARDS STP-2203C Source high vacuum pump
EDWARDS QDP Rough pump
HCIG Vacuum gauge controller
End station:
4-Cassette table
Wafer aligner type: Notch aligner
Wafer handling system: In air / In vacuum high throughput
Particle filter system: Class 1 UPLA
Implant angle:
2-Axis variable: ± 7°
Quad implant capability
Process disk spindle: GSD Direct drive
Beam monitor system:
In situ beam potential monitor
Real-time patented dose control
Real-time beam profiler (1D)
Process disk: Silicon coated UHD small radius fences
Process disk cooling interlock
ASYST LTP2000 SMIF Interface
Gas box option:
Modular gas box / 4-Strings option
1 HP (MFC Unit 1660)
3 SDS (MFC Unit 1662)
Extraction power supply: 90 keV
Extraction voltage monitor
Vaporizer
Ion source: ELS
Source bushing: Extended life bushing
Extraction electrode: Type 34
Source injection kit
AMU System: Triple index
Post accel power supply: 90 keV
Post accel electrode
Terminal isolation transformer: Dry transformer
Bias aperture assembly
Flag faraday
Secondary electron flood gun: PEF
Control UPS
Main isolation transformer
Smoke detector
Exhaust flow switch
Water leak sensor
Light tower
No real-time particle detection
Earthquake retrofit
SUN Solaris operator workstation
Hard Drive Drive (HDD)
LCD Monitor, 21"
SECS I and SECS II Protocols
GEM Interface and Ethernet ports
CIM: Solaris
2006 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2 ist eine Ionenimplantat- und Überwachungsausrüstung, die für eine überlegene Ionenimplantationsleistung, Prozesskontrolle und Einheitlichkeit entwickelt wurde. Das System bietet eine Vielzahl von Konfigurationen für die Hochenergie-Ionenimplantation von ionisierten und nicht-ionisierten Spezies mit hervorragender Leistung und Genauigkeit. AXCELIS GSD 200E-2 ist eine mehrachsige Einheit, die eine 2-achsige Scan- und Beschleunigungsmaschine mit einem 4-achsigen Servo-Bewegungswerkzeug zur gezielten und optimierten Ionenimplantation kombiniert. Die Anlage verwendet eine 200 mm Durchmesser HF-angetriebene Implantationskanone, um Ionen in einem glatten, gleichmäßigen Profil über die Substratoberfläche zu produzieren. Die Bewegung der Pistole wird durch fortgeschrittene Servoregler und unabhängige Magnetfelder erreicht. Das Modell ist mit einem Borddetektor zur Überwachung des Implantationsprozesses ausgestattet. Dieser Detektor kann auch in Kombination mit speziellen Überwachungsstrategien zur Kontrolle der Implantationsrate und Gleichmäßigkeit verwendet werden. EATON NOVA GSD 200 E2 wurde entwickelt, um den hohen Anforderungen der modernen Halbleiterverarbeitung gerecht zu werden. Es entspricht strengen Sicherheitsvorschriften und ist mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, um die Anwender sowohl vor dem Risiko von Strahlung als auch vor den potenziell gefährlichen Materialien zu schützen, die im Implantationsprozess verwendet werden. Darüber hinaus ist die Anlage mit branchenführenden Automatisierungsfunktionen ausgestattet, die eine einfache Bedienung und Optimierung des Implantationsprozesses ermöglichen. Insgesamt ist EATON NOVA GSD 200E-2 ein zuverlässiges, kontrollierbares und genaues Ionenimplantationssystem, das hervorragende Ergebnisse liefert. Es bietet eine breite Palette von Fähigkeiten, einschließlich Hochenergie-Ionen-Implantation von ionisierten und nicht-ionisierten Arten, ausgezeichnete Prozesskontrolle und komfortablen Betrieb. Das Gerät erfüllt auch strenge Sicherheitsanforderungen und gewährleistet eine angenehme und sichere Arbeitsumgebung.
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