Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS GSD #9210440 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9210440
Wafergröße: 6"
Ion implanter, 6" Energy: 160 keV (17) Batch wafers Utility configuration: Tool specification: Line power: Input power: 208VAC, 3 Phase, 60Hz, 130A, 42kVA Output power: 160KeV, 20mA Utility gas: Name / Connection type / Size CDA / SWAGELOK / 3/8” SUS Male Ar / SWAGELOK / 3/8” SUS Male PN2 / SWAGELOK / 3/8” SUS Male GN2 / SWAGELOK / 3/8” SUS Male Gas box N2 / SWAGELOK / 3/8” SUS Male Exhaust: Qty / Description / Type / Flow rate (CFM) / Size / Exhaust hood (2) / Environments / GEX / 500 / 4", PVC / Y (1) / Cryo pump / SEX / 40 / 1", SUS / Y (2) / Gas cabinets / SEX / 600 / 2", PVC / Y (2) / RP Exhausts / SEX / 100 / KF-40, Clamp / Y Cooling water: Description / Pressure (PSI) / Flow rate (GPM) / Temperature (°C) / Size City water / 100 / 20 / 25 / 1", SUS, Clamp DI Water refill / Manual / Manual / - / 1", PVC, Clamp System configuration: End station module: Notch / Flat finder: Flat Cassette type: Standard Dummy cassette Load buffer Vacuum cassette (4) Cassette tables Cell controller Loadlock type: GSD100/200 Process module: Disk: NV-GSD In-vac arm Wafer holder Pedestal Gyro: NV-GSD-100 Linear drive Belt drive Beamline type: GSD 200 Maximum extraction voltage: 160KeV AMU: Axcelis Source module: Source head: IAS Filament PS: EMI EMS 10-60 Arc PS: EMI EMS 150-7 Source magnet PS: EMI EMS 40-25 Source bushing Source injection: MKS 1640 Vacuum system: P1 / Source turbo: STP-A2000C P2 / Resolving cryo pump: CTI P3 / V3 Cryo pump: CTI (3) Ground bars Sub-systems: NESLAB HX-150 CTI 8300/8500 1994-1995 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS GSD ist ein Ionenimplantator und -monitor, der für Ionenimplantationsanwendungen mit hohem Durchsatz entwickelt wurde. Es kann verwendet werden, um eine Vielzahl von Materialien zu verarbeiten, einschließlich Halbleiter, Keramik und dünne Filme. Das Gerät läuft auf einem proprietären Softwarepaket, AXCELIS GSD Implantation Software, die flexible und optimierte Prozesssteuerung ermöglicht. Der Implantationsprozess wird durch ein hochenergetisches Diodegun beschleunigt und eine 12-Wege-Strahllinie ermöglicht die unabhängige Nutzung mehrerer Implantatarten/-energien. Es verfügt über ein 410 mm quadratisches Scheibenfutter und eine Festkammerarchitektur, um einen hohen Durchsatz zu ermöglichen. Der Prozess wird mit einer Reihe von Sensoren überwacht, die Ionenstrom, Druck, Temperatur, Gasfluss und Waferposition messen. Das Gerät integriert auch fortschrittliche Diagnose- und Feedback-Steuerungssysteme, die eine schnelle und genaue Messung kritischer Prozessparameter ermöglichen. Darüber hinaus sind Analysewerkzeuge zur Nachimplantationsüberprüfung und Prozessoptimierung im Softwarepaket enthalten. Das intelligente Steuerungssystem EATON NOVA GSD optimiert die Implantation, um die Zykluszeit zu reduzieren, die Gesamtkosten zu minimieren und die höchste Implantationsgenauigkeit zu gewährleisten. Um die Sicherheit während des Prozessbetriebs zu gewährleisten, verfügt das Gerät über mehrere Sicherheitssysteme, einschließlich Sicherheitsverriegelungen und Alarme für die Lecksuche. Das modulare Layout ermöglicht auch eine einfache Installation, Bedienung und Wartung. Dieses vielseitige System wird in Industriemärkten wie Medizinprodukten, Luft- und Raumfahrt- und Automobilkomponenten sowie für Forschungs- und Entwicklungszwecke eingesetzt. Es bietet eine ausgezeichnete Plattform sowohl für F & E-Arbeit als auch für die Produktion mit hohem Volumen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor