Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS GSD #9210440 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9210440
Wafergröße: 6"
Ion implanter, 6"
Energy: 160 keV
(17) Batch wafers
Utility configuration:
Tool specification:
Line power:
Input power: 208VAC, 3 Phase, 60Hz, 130A, 42kVA
Output power: 160KeV, 20mA
Utility gas:
Name / Connection type / Size
CDA / SWAGELOK / 3/8” SUS Male
Ar / SWAGELOK / 3/8” SUS Male
PN2 / SWAGELOK / 3/8” SUS Male
GN2 / SWAGELOK / 3/8” SUS Male
Gas box N2 / SWAGELOK / 3/8” SUS Male
Exhaust:
Qty / Description / Type / Flow rate (CFM) / Size / Exhaust hood
(2) / Environments / GEX / 500 / 4", PVC / Y
(1) / Cryo pump / SEX / 40 / 1", SUS / Y
(2) / Gas cabinets / SEX / 600 / 2", PVC / Y
(2) / RP Exhausts / SEX / 100 / KF-40, Clamp / Y
Cooling water:
Description / Pressure (PSI) / Flow rate (GPM) / Temperature (°C) / Size
City water / 100 / 20 / 25 / 1", SUS, Clamp
DI Water refill / Manual / Manual / - / 1", PVC, Clamp
System configuration:
End station module:
Notch / Flat finder: Flat
Cassette type: Standard
Dummy cassette
Load buffer
Vacuum cassette
(4) Cassette tables
Cell controller
Loadlock type: GSD100/200
Process module:
Disk: NV-GSD
In-vac arm
Wafer holder
Pedestal
Gyro: NV-GSD-100
Linear drive
Belt drive
Beamline type: GSD 200
Maximum extraction voltage: 160KeV
AMU: Axcelis
Source module:
Source head: IAS
Filament PS: EMI EMS 10-60
Arc PS: EMI EMS 150-7
Source magnet PS: EMI EMS 40-25
Source bushing
Source injection: MKS 1640
Vacuum system:
P1 / Source turbo: STP-A2000C
P2 / Resolving cryo pump: CTI
P3 / V3 Cryo pump: CTI
(3) Ground bars
Sub-systems:
NESLAB HX-150
CTI 8300/8500
1994-1995 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS GSD ist ein Ionenimplantator und -monitor, der für Ionenimplantationsanwendungen mit hohem Durchsatz entwickelt wurde. Es kann verwendet werden, um eine Vielzahl von Materialien zu verarbeiten, einschließlich Halbleiter, Keramik und dünne Filme. Das Gerät läuft auf einem proprietären Softwarepaket, AXCELIS GSD Implantation Software, die flexible und optimierte Prozesssteuerung ermöglicht. Der Implantationsprozess wird durch ein hochenergetisches Diodegun beschleunigt und eine 12-Wege-Strahllinie ermöglicht die unabhängige Nutzung mehrerer Implantatarten/-energien. Es verfügt über ein 410 mm quadratisches Scheibenfutter und eine Festkammerarchitektur, um einen hohen Durchsatz zu ermöglichen. Der Prozess wird mit einer Reihe von Sensoren überwacht, die Ionenstrom, Druck, Temperatur, Gasfluss und Waferposition messen. Das Gerät integriert auch fortschrittliche Diagnose- und Feedback-Steuerungssysteme, die eine schnelle und genaue Messung kritischer Prozessparameter ermöglichen. Darüber hinaus sind Analysewerkzeuge zur Nachimplantationsüberprüfung und Prozessoptimierung im Softwarepaket enthalten. Das intelligente Steuerungssystem EATON NOVA GSD optimiert die Implantation, um die Zykluszeit zu reduzieren, die Gesamtkosten zu minimieren und die höchste Implantationsgenauigkeit zu gewährleisten. Um die Sicherheit während des Prozessbetriebs zu gewährleisten, verfügt das Gerät über mehrere Sicherheitssysteme, einschließlich Sicherheitsverriegelungen und Alarme für die Lecksuche. Das modulare Layout ermöglicht auch eine einfache Installation, Bedienung und Wartung. Dieses vielseitige System wird in Industriemärkten wie Medizinprodukten, Luft- und Raumfahrt- und Automobilkomponenten sowie für Forschungs- und Entwicklungszwecke eingesetzt. Es bietet eine ausgezeichnete Plattform sowohl für F & E-Arbeit als auch für die Produktion mit hohem Volumen.
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