Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS HC3 Ultra #9411352 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS HC3 Ultra ist eine hochentwickelte Ionenimplantat- und Monitorausrüstung, die den Anforderungen moderner Ionenimplantationsanwendungen gerecht wird. Dieses Tool verfügt über eine Hochstrom-Ionenquelle, die Ionen bis zu 50 KeV beschleunigen kann, eine mehrstufige demountable Vakuumkammer, ein automatisiertes Mustersystem und ein robustes Steuerpaket. AXCELIS HC3 Ultra ist besonders vorteilhaft für die Bildung hochwertiger Schichten in aktiver Mikroelektronik, Dielektrik und Substraten. EATON NOVA HC3 Ultra verwendet eine elektrostatische Tauchlinseneinheit, um sicherzustellen, dass ein konsistenter Ionenstrahl auf das Zielgebiet gerichtet ist. Diese Maschine ermöglicht es dem Benutzer auch, die Form des Ionenstrahls sowie seine Größe und Ausbreitung genau einzustellen. Darüber hinaus enthält HC3 Ultra eine mehrstufige demontierbare Vakuumkammer, die hilft, eine stabile Prozessumgebung für die Ionenimplantation aufrechtzuerhalten. EATON NOVA/AXCELIS HC3 Ultra verfügt zudem über eine fortschrittliche benutzerfreundliche Oberfläche. Seine intuitive grafische Benutzeroberfläche ermöglicht es Benutzern, das Werkzeug vollständig zu überwachen und Parameter wie den Ionenstrom (bis zu 50 KeV) anzupassen, um den Prozess zu steuern. Die Software hilft Benutzern auch bei der Einstellung der Strahlform und der Energieausbreitung der Ionen. Darüber hinaus haben Anwender die Möglichkeit, zwischen Implantatprogrammen auszuwählen und umzuschalten sowie benutzerdefinierte Gasgemische zu speichern. AXCELIS HC3 Ultra enthält eine Reihe weiterer innovativer Funktionen. Die automatisierte Strukturierung ermöglicht es Benutzern beispielsweise, Substrate mit vorgewählten Implantationsenergien und -dosen zu mustern. Es zeigt auch ein einzigartiges Verschiebungsregister, das Benutzern erlaubt, erhöhte Schicht-für-Schicht-Implantationsprozesse zu führen. EATON NOVA HC3 Ultra ist ein idealer Ionenimplantator und Monitor für fortgeschrittene Implantationsprozesse. Die Hochstrom-Ionenquelle, die mehrstufige demontierbare Vakuumkammer, das automatisierte Mustermodell und die benutzerfreundliche Oberfläche machen es zum optimalen Werkzeug für schnelle und genaue Implantationsergebnisse. Darüber hinaus bieten das einzigartige Schieberegister und die einstellbaren Strahlform- und Spreizeigenschaften den Anwendern eine breite Palette von Optionen zum Mustern und Erstellen hochwertiger Schichten.