Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS HE3 #293651196 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS HE3 ist ein fortschrittliches Ionen-Implantier- und Überwachungssystem von Eaton AXCELIS Technologies. Das Gerät ist ein hochenergetischer schwerer Ionenimplantator, der in der Lage ist, präzise und qualitativ hochwertige Implantate von Materialien in Halbleiterscheiben zu produzieren. Die Maschine ist mit fortschrittlichen in-situ Prozessüberwachungs- und Steuerungssystemen ausgestattet, um eine konsistente, zuverlässige Implantation aller Halbleiterscheiben zu gewährleisten. Die Technologie hinter der EDNAXCELIS HE3 basiert auf Strahllinien-Beschleuniger mit einer 60 MeV Elektronenquelle als Energiequelle und einem hochenergetischen Strahl von Ionen beschleunigt bis zu 1-20 * 107 eV Energiebereich. Dieses Energieniveau ermöglicht die Anpassung des Implantationsprozesses an spezifische Anforderungen an verschiedene Waferproduktionsstandards. Das Gerät ist mit einer Reihe von Merkmalen ausgestattet, die den Implantationsprozess optimieren, von der genauen Ausrichtung der Strahlrichtung und Verteilung bis zur Steuerung der Energie und Masse der Partikel. Es bietet auch eine Reihe von zusätzlichen Funktionen, die eine konsistente und zuverlässige Implantation der Wafer gewährleisten sollen. Dazu gehören Sicherheitsmaßnahmen wie automatische Abschalt- und Sicherheitsalarme, die es dem Bediener ermöglichen, den Implantationsprozess bei Bedarf zu überwachen und anzupassen. Darüber hinaus umfasst das Gerät Optionen wie einen Temperaturwächter, um sicherzustellen, dass die Wafertemperatur im optimalen Prozessbereich bleibt. Darüber hinaus umfasst das Gerät eine Reihe von Sensoren und Monitoren, die eine genaue Bestimmung der Ioneneinspritzmenge und des Energieniveaus ermöglichen, um die Abweichung der Anforderungen an Oberflächenschäden zu verhindern. EATON NOVA HE3 enthält auch eine Reihe von Feedback-Schleifen, so dass Hersteller Parameter in Echtzeit anpassen, wenn nötig. Dies ermöglicht eine präzise Implantation von Materialien unter Berücksichtigung etwaiger Anpassungen aufgrund von Prozessänderungen oder Variationen innerhalb der Wafer. Schließlich verfügt die Maschine auch über eine Reihe von diagnostischen Funktionen, wie Stromüberwachung, Prozesssignalanalyse, Spannungen und Probendiagnostik, um die Qualität der implantierten Wafer zu gewährleisten. Insgesamt ist HE3 ein fortschrittliches und zuverlässiges System, das speziell für eine hochwertige, präzise Ionenimplantation entwickelt wurde. Das Gerät wurde sorgfältig entworfen, um den Bedürfnissen der Halbleiterhersteller und -hersteller gerecht zu werden, so dass sie qualitativ hochwertige und zuverlässige Produkte mit einer unübertroffenen Präzision und Konsistenz herstellen können.