Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV 10-160 #293821332 zu verkaufen

EATON NOVA / AXCELIS NV 10-160
ID: 293821332
Wafergröße: 4"-6"
Ion implanter, 4"-6".
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-160 ist ein fortschrittlicher Ionenimplantator/-monitor, der zur Implantation von Ionen in verschiedene Substrate verwendet wird, um deren Eigenschaften zu verbessern. Diese Maschine wird in der Halbleiterherstellungsindustrie eingesetzt und kann verwendet werden, um eine breite Palette von Ionen in die Substrate zu implantieren. AXCELIS NV10-160 verfügt über eine leistungsstarke Ionenquelle und einstellbare Strahlparameter, die es ermöglichen, Ionen mit präziser Steuerung in Substrate zu implantieren. EATON NOVA NV 10160 ist mit einem 10 cm x 160 Grad Ionenstrahl ausgestattet. Dadurch können Ionen mit einer Genauigkeit von +/- 10 Mikrometer pro 100mm in die x-Achse und +/- 1 Grad in die y-Achse implantiert werden. Zusätzlich hat es eine Projektionslänge von bis zu 15 cm, so dass es Ionen in größeren Abständen implantieren kann. Die Ionenquelle kann bis zu 1.6A Strom bei einer Spannung von bis zu 5 Kilovolt erzeugen, was zu einer Strahlstromdichte von bis zu 32mA/cm2 führt. Dadurch wird sichergestellt, dass das Substrat gleichmäßig mit Ionen implantiert wird, was zu einer besseren Leistung der Vorrichtung führt. EATON NOVA NV10-160 ist auch in verschiedene Überwachungssysteme integriert. Seine Ionenstrahl-Positionsüberwachung und -kontrolle (IPMC) ist in der Lage, die Strahlposition mit einer Genauigkeit von +/- 1 Mikrometer in der x-Achse und +/- 1 Grad in der y-Achse zu messen und abzustimmen, so dass der Benutzer Ionen genau implantieren kann. Darüber hinaus ist sein Strahlstrom- und Intensitätsüberwachungssystem (BCIM) in der Lage, den Strahlstrom und die Intensität zu messen und zu steuern, um sicherzustellen, dass die Ionen gleichmäßig in die Substrate implantiert werden. Das elektronische Steuergerät von EATON NOVA/AXCELIS NV 10160 ist mit einer mehrseitigen grafischen Benutzeroberfläche (GUI) ausgestattet. Dadurch kann der Benutzer die Ionenimplantatparameter schnell ändern und so seine Prozesszykluszeit optimieren. Darüber hinaus bietet es verschiedene Sicherheitsprotokolle und mehrere Sicherheitsvorkehrungen, um sicherzustellen, dass der Benutzer den Ionenimplantatprozess sicher kontrolliert. Insgesamt ist EATON NOVA/AXCELIS NV10-160 eine fortschrittliche Ionenimplantations-/Monitormaschine. Es verfügt über eine Ionenquelle und einstellbare Strahlparameter, die es ermöglichen, Ionen mit präziser Steuerung zu implantieren. Darüber hinaus ist es in verschiedene Überwachungssysteme integriert, so dass der Anwender die Prozesszykluszeit optimieren und die Sicherheit des Anwenders gewährleisten kann.
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