Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV 10-160 #9358247 zu verkaufen

Der Eaton/NovaEATON NOVA/AXCELIS NV 10-160 Ionen-Implantierer und -Monitor ist ein Halbleiterherstellungsgerät zur Steuerung der Tiefe und Verteilung der Ionenimplantation bei der Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen Halbleiterbauelementen. Es enthält einen Hochspannungs-Gleichstromgenerator, eine Stromversorgung und ein Vakuumsystem sowie eine breite Palette von Ionenquellen wie GaAs, PFC und XeCl. Diese Maschine ist in der Lage, Ionen bis zu 1,6 Millionen Volt zu implantieren und bietet ein hohes Maß an Genauigkeit und Kontrolle. Die Maschine ist mit einem selbstschwingenden Verschlusssystem ausgestattet, das die Punktgröße und -tiefe der auf die Halbleitermaterialien auftreffenden Ionen und einen Source-to-Target-Abstand von bis zu 1,25 Metern steuert. Dadurch kann der Anwender die in das Substrat implantierte Dosis, Energie und Ionenart genau steuern. Dies ist wesentlich für eine ordnungsgemäße Dotierungssteuerung und Profilkontrolle im Herstellungsprozess. Die Maschine verfügt über einen integrierten Ionenstrahlmonitor und ein digitales Auslesen, das kontinuierlich jede Ionenartkonzentration und die Veränderungsrate der Ionenkonzentration aus der Quelle misst. Der Ionenstrom wird auch bei jeder Implantation gemessen, was einen Echtzeitstatus hinsichtlich der Konsistenz des Implantationsprozesses ergibt. Der Monitor ist auch in der Lage, den Widerstand implantierter Schichten im Substratmaterial zu messen, um sicherzustellen, dass die gewünschten Widerstandswerte erreicht werden. Der DV 10-160 ist ferner mit einer Computersteuerung zum Be- und Entladen von Wafern und Ionen sowie zur Überwachung der Prozessparameter ausgestattet. Das Softwarepaket enthält außerdem ein unabhängiges Verifizierungssystem, das es dem Anwender ermöglicht, die Parametereinstellungen jedes Wafers vor und nach der Implantation zu überprüfen und somit eine hohe Qualitätskontrolle während der Produktion zu ermöglichen. Darüber hinaus ist diese Maschine mit mechanischen Vorrichtungen ausgestattet, die verwendet werden, um das Substrat während der Implantation und das Zielmaterial danach zu halten, um eine genaue Platzierung und Orientierung beider zu gewährleisten. Dies erhöht die Genauigkeit und Präzision des Implantationsprozesses weiter. Der Eaton/NovaAXCELIS NV10-160 Ionenimplantator und Monitor ist ein unverzichtbarer Bestandteil des Halbleiterherstellungsprozesses, der eine optimale Steuerung von Dotierungsprofilen, Widerstand und Implantatdosis sowie die Unterstützung von Qualitätskontrollen und Produktionsprozessen ermöglicht.