Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV 10-160 #9412140 zu verkaufen
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ID: 9412140
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1986
Ion implanter, 6"
Energies: 20~160 keV
Minimum beam current: 10 μA
Dose range: 5.0E12 to 5.0E15 Atoms / cm²
Beam current for 80 kev:
Energy (keV) / B11 (mA) / As75 (mA) / P31 (mA)
20 / 0.5 / 0.2 / 0.3
40 / 1 / 1.5 / 1
80 / 2 / 3 / 2.5
140 / 3 / 5 / 5
Throughput:
Batch size: 10 Wafer
Throughput: 100 WPH
Maximum implant time: 120 Sec
Vacuum performance:
Diffusion pump: ≤5.0E-06 Base pressure (Torr)
Cryo-Torr 8 Pump: ≤5.0E-06 Base pressure (Torr)
Cryo-Torr 8 Pump: ≤5.0E-06 Base pressure (Torr)
Maximum wafer temperature control: 100°C
X-Ray emission ≤0.6μ Sievert / hr (60μ rem / hr) at 150 mm
No UPS
Power supply: 208 VAC, 3 Phase, 4 Wire, 45 kVA, 125 Amp, 60 Hz
1986 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-160 ist ein hochenergetischer Ionenimplantator und -monitor, der entwickelt wurde, um eine präzise und genaue Ionenimplantation bereitzustellen, die bei der Herstellung von Mikrochips und anderen wichtigen Halbleiterbauelementen erforderlich ist. Diese Maschine verwendet Ionenstrahlen, die beschleunigt und präzise fokussiert und auf ein Zielsubstrat gescannt werden, um die Eigenschaften des Substrats zu ändern und präzise Muster und komplexe Strukturen zu erzeugen. AXCELIS NV10-160 ist ein äußerst zuverlässiges Werkzeug zur präzisen und sicheren Ionenimplantation. Es wird von der Eaton Central Processing Unit (CUP) angetrieben und umfasst eine Reihe integrierter Sicherheitsfunktionen zur Unfallverhütung, einschließlich eines unabhängigen Strahlüberwachungssystems, eines Hochspannungsschalters, eines Aluminiumstrahlkäfigs und einer Hochdruckgasleitung für ein sicheres Gashandling. EATON NOVA NV 10160 arbeitet bei einer Spitzenspannung von 160 kV und einer maximalen Implantationsdosis von 1e + 13 Ionen/cm ². Diese Maschine verfügt über einen Strahlstrom bis 40mA, der eine präzise Steuerung der Implantationsdosis, der Energie, der Spannung und des Stroms ermöglicht. Darüber hinaus ist NV 10160 mit einem computergestützten Analysesystem ausgestattet, das präzise und genaue Implantatdaten liefert, einschließlich Tiefenprofilierung, Stromdichte und Dosis. Mit dieser fortschrittlichen Technologie kann AXCELIS NV 10-160 verwendet werden, um eine Vielzahl von Materialien wie Silizium, Germanium, Aluminium, Eisen und andere Metalle und Polymere zu implantieren. Es ist auch in der Lage, die Implantation von Dotierstoffen, einschließlich Arsen und Phosphor. Seine große Kammergröße bedeutet, dass große Substrate implantiert werden können, ohne die Genauigkeit und Gleichmäßigkeit zu beeinträchtigen. EATON NOVA/AXCELIS NV10-160 ist ein ideales Werkzeug für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiter und anderer anspruchsvoller Komponenten. Seine Präzision und Zuverlässigkeit machen es zur perfekten Wahl für Forschungslabore, industrielle Fertigungsanlagen oder jede andere Einstellung, die eine präzise Ionenimplantation erfordert. Kurz gesagt, EATON NOVA/AXCELIS NV 10160 ist ein unschätzbares Werkzeug für diejenigen, die höchste Genauigkeit und Präzision in jeder Ionenimplantatanwendung benötigen.
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