Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV 10-80 #9183991 zu verkaufen

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ID: 9183991
High current ion implanter Standard beam controller Kaiser HVPS Bernas ion source With AT4 autoloader (*non-functional) Includes data flow option SDS and high pressure (SDS B11 and PH3) High pressure Ar 6” Clampless (150 mm Set up) Vac exchange arm (2) Disks 80 KeV Max Kaiser high voltage power supply Vaporizer: Yes Cryo pumps: (2) CTI 8 standard + compressors (4) Gas high pressures Disk exchange arm type: Vacuum Analyzer power supply: EMI Type Pumps: (2) LEYBOLD D40 B (RP3, 4) Electronics (CPU Software / PCB Type): Vac controller: VAC 733 (101 MB) Dose controller: 796 Rev. E (101 MB) AMU Controller: AMU618 C (101 MB).
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-80 ist ein Ionenimplantator und -monitor, der entwickelt wurde, um eine zuverlässige und genaue gepulste Ionenimplantation bereitzustellen. Es verfügt über ein patentiertes, optimiertes Beamline-Design mit Automatisierung und Präzisionssteuerung. Das Gerät verfügt über ein fortschrittliches Strahlsteuerungsmodul und eine Prozesssteuerungssoftware, die die effiziente Gasstromregelung, Verdrängungsregelung und Strahlstromregelung für unterschiedliche Prozessbedingungen ermöglicht. Das System verfügt zudem über ein kompaktes, platzsparendes Design, das die Installation und Einrichtung aus der Box ermöglicht. AXCELIS NV 10-80 liefert aufgrund seiner überlegenen Strahlcharakteristik, wie Pulsrate, Pulsform, Pulsdauer und Pulsstrom, eine überlegene Ionenimplantationsleistung. Es hat eine sehr hohe Implantationseffizienz, die die Menge an nicht implantierten Ionen im Wafer reduzieren und somit die Ausbeute erhöhen und die Kosten senken kann. Das Gerät verfügt auch über proprietäre Echtzeit-Implantate Selbstdiagnose-Funktion, die Strahlungleichförmigkeiten vor oder während der Implantation erkennen können. EATON NOVA NV 1080 verfügt über voll integrierte Überwachungs-, Mess- und Steuerungsfunktionen. Das Monitor-Panel der Maschine zeigt alle wichtigen Informationen, einschließlich Geschwindigkeit, Druck, Dosis, Strom und Implantat Position. Das Werkzeug verfügt auch über automatisierte Kammer-, Strahl- und Wafer-Scanfunktionen sowie Wafer-Rotations-, Fokussierungs- und Ausrichtungsfunktionen. Dadurch können die Anwender die Implantationsdosis präzise steuern und Strahlparameter optimieren. NV 10-80 ist einfach und flexibel zu bedienen, und es kann von Betreibern verwendet werden, die eine breite Palette von Erfahrungsniveaus haben. Es ist eine kostengünstige Lösung für die Produktion mit einer hohen Prozesssteuerbarkeit, Produktivität und Ausbeute für mittel- bis großvolumige Anwendungen. Die Anlage ist auch einfach zu warten und kann langfristige Zuverlässigkeit bieten. AXCELIS NV 1080 wurde entwickelt, um die höchsten Sicherheits- und Qualitätsstandards zu erfüllen und kann hohe Leistung über längere Zeiträume aufrechterhalten. Es ist HAS-konform und wurde entwickelt, um den härtesten Industriestandard zu erfüllen, wenn es um Qualität, Sicherheit und Zuverlässigkeit geht.
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