Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV 10-80 #9227038 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS NV 10-80 Ionenimplantator und Monitor ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Gerät zur Implantation von Ionen in Substrate. Das Gerät ist in der Lage, große Bereiche von Ionen wie Bor, Arsen, Phosphor, Antimon, Schwefel und andere zu implantieren. Es ist mit verschiedenen Komponenten ausgestattet, die eine präzise Kontrolle des Prozesses ermöglichen und eine einfache und genaue Bedienung ermöglichen. AXCELIS NV 10-80 besteht aus drei Hauptteilen: der Waferstufe, der Ionenquelle und dem Monitor. Die Waferstufe wird verwendet, um die Position des Substrats während der Implantation zu steuern, was eine präzise und wiederholbare Platzierung der Ionen ermöglicht. Die Ionenquelle, bestehend aus Magnetronkathode und Elektronenkanonen, dient der Erzeugung und Beschleunigung der Ionen zu den Substraten hin. Der Monitor, bestehend aus Festkörperdetektoren, misst den Fluss der Ionen während des Implantationsprozesses. EATON NOVA NV 1080 arbeitet mit einem computergesteuerten System, das den Implantationsprozess automatisiert. Es kann viele Parameter steuern, wie Ionentypen, Ionenenergien, Ionenstreichraten, Dosiswerte und Wafer-Positionierung. Dies gewährleistet präzise Implantationsergebnisse und ermöglicht es Anwendern, die Implantationseffizienz und Genauigkeit zu optimieren. Es ist auch mit Sicherheitsfunktionen ausgestattet, einschließlich Verriegelungen und Begrenzungen der Leistungsstufen. NV 1080 ist für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen konzipiert, einschließlich in der Halbleiterherstellung, MEMS, LED, optoelektronischen und biomedizinischen Behandlungen. Es ist kompatibel mit verschiedenen Materialien, einschließlich Silizium, Aluminium, Zink, Tellur und Titan, und mit einer breiten Palette von Implantationswinkeln. EATON NOVA NV 10-80 ist ein zuverlässiges und leistungsstarkes Gerät, das hervorragende Implantationsergebnisse liefert. Sein automatisiertes computergesteuertes System sorgt für präzise und genaue Implantation, und seine Palette von Funktionen ermöglicht es Benutzern, die Implantationseffizienz und Genauigkeit zu optimieren. Es eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungen und Substratmaterialien und ist somit ein vielseitiges und gut geeignetes Gerät für die Ionenimplantation.