Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV 10-80 #9412142 zu verkaufen
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ID: 9412142
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1986
Ion implanter, 6"
(4) Sources
Ion beam energy: 20~80keV
Dose range: 5.0E12 - 5.0E15 atoms / cm²
Minimum beam current: 10µA
Wafer temperature: 100°C
X-Ray emission: ≤0.6μ Sievert / hr (60μ rem / hr)
Charge control technology: Secondary Electron Flood (SEF)
Mechanical throughput:
Batch size: 10 wafers
Throughput: 100 WPH
Maximum implant time: 120 sec
Dose control:
Bare Si Wafers: ≤3.0%
Photoresist wafers: ≤4.0%
Beam current for 80kev:
Energy(keV) / B11(mA) / AS75(mA) / P31(mA)
20 / 0.5 / 0.2 / 0.3
40 / 1 / 1.5 / 1
80 / 2 / 3 / 2.5
Vacuum performance:
Subsystem / Pump / Base pressure (Torr)
Source / Diffusion pump / ≤5.0E-06
Beamline / Resolving housing / Cryo Torr8 / ≤5.0E-06
Resolving housing / Process chamber / Cryo Torr8 / ≤5.0E-06
1986 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-80 ist ein fortschrittlicher Ionenimplantator und Monitor, der in der Halbleiterindustrie zur Konfiguration integrierter Schaltungen und anderer mikroelektronischer Komponenten verwendet wird. Es ermöglicht präzise Anpassungen der Oberfläche und der inneren Mikrostruktur von Materialien, um Submikron-Merkmale in industriellen Prozessen zu schaffen. Diese Ausrüstung ist ideal für diejenigen, die eine zuverlässige, kostengünstige und zuverlässige Verbesserung der Materialleistung in der Fertigung suchen. AXCELIS NV 10-80 arbeitet mit einer Hochspannungs-Plasmakammer und einem programmierbaren Multiwire-Array. Mit dem eingebauten Array wird der Plasmadruck und der Durchfluss präzise gesteuert und die Konzentration der benötigten Ionenarten durch die Gaussfallenausrüstung vor Ort überwacht. Die exakt gesteuerte Ausgangsenergie des Strahls wird auf die Zieloberfläche verteilt, was eine weitgehende Kontrolle des Implantationsprozesses ermöglicht. Das fortschrittliche Überwachungssystem von EATON NOVA NV 1080 ermöglicht es dem Anwender, eine gleichbleibende Qualität der Implantation auch bei der Verarbeitung komplizierter Komponenten aufrechtzuerhalten. Die Echtzeit-Diagnosefähigkeiten der Einheit bieten eine detaillierte Charakterisierung von Strahlparametern und zugehörigen Defekten. Dies ermöglicht eine nahezu sofortige Fehlererkennung und Prozesskorrektur sowie die gezielte Implantation bestimmter Materialien. Onshore-Überlappungsüberwachung ist für die gleichzeitige Überwachung der Überlappung von zwei Strahlstellen in der gleichen Ebene verfügbar, die Bediener mit schnellen Diagnosen und dynamisch modifizierten Überlappungen unterstützt. Die Maschine ist flexibel und ergonomisch konzipiert und verfügt über eine Standard-Bedienkonsole, drei separate Operationstische und eine modulare Positioniermaschine. Es ist mit einem PC-basierten Steuerungstool ausgestattet, das eine Vielzahl von Prozessüberwachungs- und Steuerungsaufgaben automatisieren kann. Weitere Merkmale sind eine präzise Lithium-Cluster-Ionenquelle, ein programmierbarer Ionentyp, ein Ionenstrahl-Strom- und Dosisbereich sowie eine einfach zu bedienende Dateneingabe- und -analyse. Für maximale Sicherheit und Komfort ist EATON NOVA NV 10-80 nach CE- und UL-Sicherheitsstandards zertifiziert. Seine Konstruktion und Bedienung sind äußerst zuverlässig und sicher, so dass es eine ideale Wahl für die Präzisionsbearbeitung ist. Um maximale Prozessleistung in allen Anwendungen zu gewährleisten, bietet die Maschine zuverlässige Ergebnisse aus ihrem fortschrittlichen Steuermodell und produziert eine gleichbleibend hochwertige Implantation.
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