Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV 10 #9036797 zu verkaufen

EATON NOVA / AXCELIS NV 10
ID: 9036797
Electron shower gun Flood-4.
EATON NOVA/AXCELIS NV 10 ist ein Hochleistungs-Ionen-Implantierer und -Monitor für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es ist eine fortschrittliche, analytische Plattform, die entwickelt wurde, um Prozessparameter genau zu überwachen und einzelne Ionen mit extrem hoher Präzision zu implantieren. Die hochmodernen, integrierten Steuerungsfunktionen ermöglichen es dem Bediener, schnell einen konsistenten Implantierungsprozess einzurichten und aufrechtzuerhalten. Darüber hinaus kann es verwendet werden, um on-the-fly Analyse der implantierten Ionen, Frequenzen, Konzentrationen und Verteilungen durchzuführen. Zu den Schlüsselkomponenten von AXCELIS NV 10 gehört eine präzise gesteuerte, hochpräzise dreiachsige lineare Motorplattform, die den Implantatkopf bewegt und eine extrem hohe Genauigkeit und Auflösung ermöglicht. Es ist mit einer aktiven Analysekammer ausgestattet, um Ionenimplantationsraten, Strahlfleckgröße, Ionenmasse und Energie zur Validierung von Prozessergebnissen zu messen. Seine Rückführausrüstung hilft, den Implantationsprozess über eine Vielzahl von Bedingungen konstant zu halten. EATON NOVA NV 10 enthält auch eine Reihe von erweiterten Funktionen zur Überwachung und Aufzeichnung von Änderungen der relativen Position des Implantatkopfes in Bezug auf die Probe. So können Anwender Präzisionsgenauigkeit und Reproduzierbarkeit optimieren. Es enthält auch ein Ionenmesssystem, das Echtzeitmessungen der Ionenimplantationsrate, Strahlfleckgröße, Ionenmasse und Energie liefert. NV 10 verfügt über eine automatisierte Wafer-Handhabungseinheit, die ein schnelles und effizientes Implantieren mehrerer Wafer ermöglicht, um den Durchsatz zu erhöhen. Die automatisierte Maschine unterstützt bis zu vier Waferkassetten und ist in der Lage, Implantatproben schnell oder im Betrieb zu wechseln, ohne den Prozess zu unterbrechen. Insgesamt ist EATON NOVA/AXCELIS NV 10 ein extrem leistungsstarker und genauer Ionenimplantator und -monitor. Es ist für anspruchsvolle Prozesse konzipiert, die eine stetige und präzise Kontrolle des Implantierwerkzeugs und der Prozessparameter erfordern. Die Anlage ist einfach zu bedienen und bietet eine ausgezeichnete Genauigkeit und Stabilität des Implantationsprozesses, so dass sie für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden kann.
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