Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV 6200A #293628042 zu verkaufen
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ID: 293628042
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1990
Implanter, 6"
Energy: 5 to 200 kV
Accel PS: 180 kV
Extraction: 20 kV
Neutral gas: Argon
Hot source with oven
(3) Gas box lines with mass flow
(2) External gas box lines
Extraction housing
Magnet range: 125 Standard voltage
Dose uniformity and repeatability: 1 σ < 0.5%
Type: Dual platen, continuous through put, cassette to cassette
Fully automatic, pick and place
Throughput: 250/hr
Wafer tilting: 0 To 10°
Wafer orientation: 0 To 360°
Wafer breakage: Less 1 wafer out of 20000
Cooling water: 3 GPM with 80°F
Input temperature: 30 - 60 PSI
Compressed air supply: 90 - 125 PSI
Dry nitrogen: 60 - 70 PSI
Heat dissipation:
Air: 16750 BTU/hr
Water: 49000 BTU/hr
Exhaust air volume:
Gas box: 300 CFM (minimum)
H.V Terminal: 300 CFM (minimum)
Power: 24 kVA, 208 V, 3 Phase, 5 Wire, 50/60 Hz
1990 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 6200A ist ein fortschrittlicher Ionenimplantator und -monitor, der entwickelt wurde, um eine hochgenaue, präzise und zuverlässige Verarbeitung der Ionenimplantation zu gewährleisten. Dies ermöglicht dem Anwender eine maximale Fertigungsleistung unabhängig von Ionenarten, Dosis und Energiebereich. AXCELIS NV 6200A ist eines der führenden Geräte im Bereich der Ionenimplantation. Das Design von EATON NOVA NV-6200A spielt eine große Rolle in seinem Erfolg. Diese Maschine verfügt über eine beheizte, selbstreinigende Quarzvakuumausrüstung und ist auf Inertgas- und Diodentechnologien zugeschnitten. Seine Ultra-Hochvakuum (UHV) -Version ist ideal für extrem niedrige Energie Kohlenwasserstoff-Ionen. Diese Maschine nutzt auch die proprietäre Radialfeldtechnologie, die es ermöglicht, hochgleichmäßige Mehrpunkt-Implantationsprofile zu erreichen. Darüber hinaus wurde EATON NOVA/AXCELIS NV-6200A für eine Reihe von Halbleiterprozessen entwickelt, die eine größere Flexibilität in komplexen Implantationsabläufen ermöglichen. AXCELIS NV-6200A verfügt zudem über einen integrierten Monitor, der Rückmeldung und Steuerung ermöglicht. Dieses System ermöglicht es dem Benutzer, Partikelstrahlstrom, Druck und Gasfluss zur Echtzeiteinstellung und -korrektur zu überwachen. Darüber hinaus kann der Monitor auch verschiedene Gerätebedingungen diagnostizieren und eine vorbeugende Wartung ermöglichen, um einen zuverlässigen Betrieb bis zum Nanometerstand zu gewährleisten. Dadurch kann der Anwender sicherstellen, dass die Prozessbedingungen in Top-Form gehalten werden, was die Kernresonanzanalyse ermöglicht. Insgesamt ist NV 6200A eine leistungsfähige und zuverlässige Ausrüstung, die die kompliziertesten und fortschrittlichsten Halbleiterverarbeitungsanforderungen bewältigen kann. Es ermöglicht dem Anwender, hochgenaue und präzise Implantationsprozesse mit einer Reihe von Ionenarten, Dosen und Energien zu erreichen. Durch den Einsatz von Radial Field Technology sowie einer integrierten Überwachungsmaschine trägt diese Maschine dazu bei, dass die Fertigungsleistung maximiert und beliebig viele Prozesse erfolgreich abgeschlossen werden.
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