Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV 8200P #293646149 zu verkaufen

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ID: 293646149
Wafergröße: 6"
Ion implanter, 6" Transformer Injector: Bernase ion source with dual vaporizer Single stage extraction, 15-40 kV Dipole magnet, 90° Target postioning / scanning system: Parallel beam Electrostatic angle correction Programmable tilt, 0°-60° Endstation: Electrostatic silicon wafer chuck, 6" Flat / notch alignment with buffer cassette 3-Axis robotic pick and place system Vacuum system: LEYBOLD HERAEUS TMP 1000C LEYBOLD HERAEUS TMP 600C LEYBOLD HERAEUS TMP 151C CTI-CRYOGENICS Cryo-Torr, 8" (3) Turbo controllers Roughing pump: LEYBOLD HERAEUS D40B Rotary vane LEYBOLD HERAEUS D40BCS EDWARDS iQDP40 Dry pump EDWARDS EH250 Blower Gas bottle enclosure: MFC VCR Fittings Does not include: Chillers, Helium compressor.
EATON NOVA/AXCELIS NV 8200P ist ein fortschrittliches Ionen-Implantier- und Überwachungsgerät, das in der Mikroelektronik-Fertigungsindustrie eingesetzt wird. Dieses System wurde entwickelt, um sehr genaue und präzise Gerätestrukturen zu schaffen, die für die heute immer komplexeren elektronischen Komponenten von entscheidender Bedeutung sind. AXCELIS NV-8200P Ionenimplantierer ist auf einer erweiterbaren Plattform aufgebaut, die einen höheren Prozessdurchsatz und eine erhöhte Genauigkeit ermöglicht. Es umfasst die neuesten Technologien in der Beamline-Technologie, um verlustarmes Ätzen und eine einheitliche Implantatverteilung zu erreichen. Das vereinfachte Beamline-Design hilft auch, Ausfallzeiten zu reduzieren und die Langlebigkeit des Geräts zu erhöhen. EATON NOVA NV 8200 P ist in der Lage, Winkel- und Tiefenkontrolle zu implantieren, die eine höhere Flexibilität und Genauigkeit im Implantationsprozess bietet. Es kann verwendet werden, um eine Vielzahl von Materialien sowie verschiedene Dosierungen zu implantieren. Es bietet auch eine Reihe von Prozessparametern wie Strahlstrom, Ionenenergien, Beschleunigungsspannungen und Richtungen, so dass es eines der flexibelsten Implantiersysteme zur Verfügung. EATON NOVA NV 8200P Monitor bietet Echtzeit-Feedback an den Benutzer mit dem In-situ-Strahl-Extraktionsmechanismus. Die Maschine misst die Abscheiderate, den Ionenbereich, die reflektierte Dicke, den Strahlstrom und die Energie des Implantats und gibt dem Anwender eine größere Kontrolle über den Prozess. Es kann auch kritische Ereignisse erkennen, die helfen, Produktschäden während der Implantation zu verhindern. AXCELIS NV 8200P ist ein führendes Ionen-Implantier- und Monitor-Tool, das beispiellose Genauigkeit und Wiederholbarkeit bei der Erstellung von Gerätestrukturen für die Mikroelektronikindustrie bietet. Seine fortschrittlichen Eigenschaften und sein robustes Design machen es zu einer idealen Wahl für diejenigen, die qualitativ hochwertige Produkte mit noch höherer Kontrolle erstellen möchten.
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