Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV 8200P #9402498 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS NV 8200P ist ein hochmoderner Ionenimplantator und -monitor. Mit diesem speziellen Ionenimplantator und Monitor werden Ionen in ein Halbleitersubstrat implantiert, mit denen dann die elektrischen Eigenschaften des Halbleitermaterials modifiziert und verbessert werden können. Wie der Name schon sagt, wird die NOVAAXCELIS NV-8200P von einer Hochleistungs-AXCELIS-Ionenquelle angetrieben. Die Nova-Ionenquelle ist sehr effizient konzipiert und kann durch die Anwendung fortschrittlicher Ionenstrahloptimierungstechniken Strömungen und Flüssigkeiten mit hohen Strahlen erzeugen und gleichzeitig Abfälle minimieren. EATON NOVA NV 8200 P verfügt auch über ein fortschrittliches Monitorsystem, das einen integrierten Echtzeit-Strahlmonitor, einen Partikelverteilungsmonitor und ein energiedispersives Spektrometer umfasst. Diese Instrumentenkombination ermöglicht eine präzise Steuerung der Strahlzusammensetzung und -eigenschaften und ermöglicht so eine präzise Abstimmung und Optimierung des Ionenimplantats. Der NOVAAXCELIS NV 8200 P ist mit einer Vielzahl von Prozessfähigkeiten ausgestattet. Es ist in der Lage, Bor, Phosphor und Arsen-Implantate sowie Stickstoff- und Sauerstoffimplantate zu produzieren und zu kontrollieren. Es ist auch in der Lage, eine breite Palette von Implantaten von flach bis Kreuzung und Tiefen zu produzieren. Darüber hinaus ist es in der Lage, eine Vielzahl von Impulsformen wie Rechteckwellen und Dreieckswellenformen auszuführen, wodurch eine Vielzahl von Dosen in das Ziel-Halbleitersubstrat implantiert werden kann. Neben den Implantations- und Überwachungsfunktionen des NOVAAXCELIS NV 8200P umfasst das System auch integrierte Ausrichtwerkzeuge, die eine präzise Kalibrierung des Systems sowie eine optimierte Scan-Ausrichtung gewährleisten können, die für hohe Implantatausbeuten entscheidend ist. EATON NOVA NV-8200P ist ein hochentwickelter und innovativer Ionenimplantator und -monitor. Die Kombination aus fortschrittlichen Ionenquellen, Prozessen, Monitoren und Ausrichtungswerkzeugen macht es zu einem leistungsstarken Werkzeug für die Ionenimplantation, das eine präzise Steuerung und Optimierung von Implantatparametern ermöglicht und gleichzeitig Abfall minimiert. Dieser sehr vielseitige und leistungsstarke Ionen-Implantierer und -Monitor ist ein wesentliches Werkzeug für viele Anwendungen, einschließlich Premium-Geräteherstellung und Halbleiterforschung.