Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV 8250 #293595676 zu verkaufen
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ID: 293595676
Weinlese: 2000
Implanter
Vacuum system:
CTI-CRYOGENIC 9600 Cryo compressor
OB 8 Beam line cryo pump
(2) OB 8 Process cryo pumps
STP1003C Source pump
STP301C Beam line turbo pump
STP1003C Beam line turbo pump
Vacuum controller: HCIG
End-station:
(2) Cassettes capability
Wafer size: 8"
Wafer notch alignment: Automatic notch alignment capability
Wafer handling system: In-air / In-vacuum high throughput
Particle filter system: Class 1, UPLA Filtered wafer handling system
Implant angle capability:
Quad implant
Real-time beam profiler (Single dimension)
Tilt axis: 45°
Twist axis: 360°
Beam monitoring system: Real-time patented dose control
Chuck: Electro-static clamp
Chuck cooling interlock
ASYST LPT 2200 SMIF Interface
Chiller
E-Clamp
E-Shower controller and power supply unit
Flag faraday relay box
Beam profiler card include external box
DSP Motor controller
CP1 Pump
Dosimetry frame include side cup and P-Cup
Cell controller
Aligner assembly
CPU
Tx Arm include pneumatic assy
Oscilloscope
FFU
Terminal:
Four string gas box:
Gas box option: Modular gas box
High pressure string
(2) SDS String hydride: Arsine and phosphine
SDS String fluoride: Boron trifluoride
(3) Pressure transducer on SDS string (Per string): PSIA
Mass flow controller:
UNIT 1660
(3) UNIT 1662
Extraction voltage monitor: 0-40 keV
Vaporiser:
Ion source: ETERNA Extended Life Source (ELS)
Source bushing: Extended life bushing
Extraction electrode: (3) Axis extraction electrode
AMU System: Triple indexed mass analysis magnet and power supply
Beam shutter
Beam line quads beam focus and scanner
P-Lens power supply: 0-68 keV
Decel power supply: 0-40 keV
Accel power supply: 0-142 keV
Terminal transformer: Oil-cooled transformer
Angular energy filter
Energy slit
Beam profiler with P-cup
Flag faraday with side cups
Cathode power supply unit
Filament power supply unit
Arc power supply unit
Source controller
(3) Turbo pump include controller / Harness
Ext electrode assy
Source and cooling flange
Source magnet power supply unit
High resolution scanner scan generator DI
AMU Power supply unit
Terminal PD DI
Beam Shutter DI: Dose DI
Terminal beam line DI: General IO DI
Gas box DI
Ground interface DI: Terminal DI
Disk thermocouple DI: TC Di
(4) IG Controllers and cables
HV Supply power supply unit
Extraction power supply unit
Quad power supply unit
Right scan amplifier
Digital tesla meter
Scan suppression power supply unit
Accel power supply unit
Decel power supply unit
AEF power supply unit
Charge control technology: E-Shower
NESLAB / AFFINITY Chiller
Control UPS:
Main isolation transformer
Smoke detector
Exhaust flow switch
Water leakage sensor
Light tower
SECS I and SECS II Protocols
GEM Interface
Ethernet ports
IG and TC Gauge
2000 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 8250 ist ein leistungsstarker Ionenimplantator und -monitor, der entwickelt wurde, um hochpräzise und qualitativ hochwertige Ionenimplantationsprozesse zu ermöglichen. Die Ausrüstung hat ein ausgeklügeltes Design, das ausgezeichnete Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Robustheit liefert. Der Ionenimplantator ist mit zwei Sätzen konzentrischer Säulen ausgestattet. Der äußere Säulensatz wird als Quellkammer und der innere Säulensatz als Zielkammer bezeichnet. Die Quellkammer beherbergt die Ionenquelle und die Zielkammer beherbergt die zu implantierenden Proben. Darüber hinaus verfügt das System über eine computergesteuerte Beamline, die eine präzise Steuerung des Ionenimplantationsprozesses ermöglicht. Der effiziente und zuverlässige Ionenimplantierer ist mit einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet, die die Genauigkeit und Produktivität verbessern. Die Einheit ist in der Lage, alle wesentlichen Operationen im Ionenimplantationsprozess zu automatisieren, einschließlich der Quellkammer und Zielkammerparameter, Emissions- und Strahlabtastung. Darüber hinaus verfügt die Maschine auch über einen ausgeklügelten Fehlererkennungsmechanismus, der Probleme erkennen kann, bevor sie Fehler im Implantationsprozess verursachen. AXCELIS NV 8250 verfügt auch über fortschrittliche Diagnosemethoden, die die Stabilität des Werkzeugs in Bezug auf Energiestabilität und Strahlparametergenauigkeit gewährleisten. Das Gut ist besonders nützlich für die Herstellung von Implantaten mit hoher Präzision, Wiederholbarkeit und Robustheit. Es verfügt außerdem über eine benutzerfreundliche Oberfläche, mit der Benutzer den Ionenimplantationsprozess einfach überwachen und steuern können. Schließlich ist EATON NOVA NV 8250 für den langfristigen, zuverlässigen Betrieb konzipiert und bietet eine Reihe von Vorteilen wie verbesserte Implantatqualität, verbesserter Durchsatz und reduzierte Zykluszeiten. Dies macht es eine gute Wahl für Anwender, die hochwertige Ionenimplantatoren und Monitore für ihre Anwendungen benötigen.
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