Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV 8250 #293595700 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS NV 8250 ist ein Ionenimplantator und Monitorgerät zur Halbleiter- und Dünnschichtverarbeitung. Das System besteht aus einer Ionenpistole und einem Elektronenmonitor. Die Ionenpistole erzeugt einen Ionenstrahl, üblicherweise aus Bor oder Phosphor, der zur Abscheidung von Dotierstoffen in die dünnen Filme verwendet wird, während der Elektronenmonitor den Strom des resultierenden Strahls misst. Das Gerät hat einen weiten Betriebsspannungsbereich von 6 bis 12 keV und kann sowohl im Dauerbetrieb als auch im Pulsbetrieb betrieben werden. Es ist mit einem Ablenker ausgestattet, der den Winkel und die Breite des Strahls steuert, sowie einem Faraday-Generator, der den Faraday-Strom des Strahls misst, um die Dotierstoffkonzentration der dünnen Filme zu bestimmen. Darüber hinaus ist die Maschine sehr fehlertolerant und verfügt über eine Selbstdiagnose, um Fehlfunktionen zu erkennen, was eine schnelle und einfache Wartung ermöglicht. Das Tool verwendet eine Vielzahl von dünnen Filmen (ZnS, TiN, SiC, etc.). Das Ausgangsmaterial, typischerweise ein Wafer, wird in den Quellenhalter eingelegt und kann auf Größe, Dicke und Neigung eingestellt werden. Die Strahlparameter wie Strahlfleckgröße, Strom und Energie können eingestellt werden, und der Strahl kann in verschiedene Winkel abgelenkt werden, um eine gleichmäßige Abdeckung der Waferoberfläche zu gewährleisten. Die Ionenstrahlen werden durch ein Array von elektrostatischen Linsen geführt, wodurch die Strahlfleckgröße fein eingestellt werden kann. Die Anlage ist auch mit einer Reihe von Sicherheitsfunktionen ausgestattet, die sowohl den Betreiber als auch die Ausrüstung schützen. Das Modell enthält eine Notspüleinrichtung, die den Strom automatisch abschaltet, wenn eine Anomalie erkannt wird. Zusätzlich ist der Quellenhalter von einem abgeschirmten Kasten umgeben, wodurch die Exposition des Bedieners gegenüber gefährlicher Strahlung reduziert wird. AXCELIS NV 8250 ist ein hochentwickeltes Ionenimplantat- und Monitorsystem, das eine präzise und zuverlässige Dotierstoffabscheidung auf dünnen Filmen für die Halbleiter- und Dünnschichtverarbeitung ermöglicht. Mit seinen hoch einstellbaren Parametern und dem Spektrum an Sicherheitsmerkmalen kann das Gerät Bedienern helfen, konsistente und zuverlässige Ergebnisse zu erzielen.