Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV GSD 200 #293721218 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS NV GSD 200 ist eine Ionen-Implantier- und Monitorausrüstung, die für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiter-ICs entwickelt wurde. Es ist in der Lage, einen Ionenstrahl mit sehr hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit in den Siliziumwafer zu implantieren. Das System betreibt eine Hochspannungsversorgung, um einen Ionenstrahl mit 1 bis 5kV und einen Ionenstrahl-Strom von bis zu 10mA zu erzeugen. Der Strahl wird dann von der Precision Scanning & Patterning Unit (PS&PU) fokussiert und gesteuert, die dafür sorgt, dass der Ionenstrahl immer in der gewünschten Position und Intensität ist. Zusätzlich ist das Gerät mit einem Partikeldetektor zur Messung der Implantatparameter wie Stromdichte, Strahlgröße und Dosisrate ausgestattet. Darüber hinaus verfügt die Maschine über ein fortschrittliches Steuerwerkzeug, das optimale Implantationsergebnisse ermöglicht. AXCELIS NV GSD 200 ist ein automatisiertes Asset, das eine schnelle und genaue Implantation garantiert, indem eine HF-Stromversorgung verwendet wird, um das entsprechende Energieniveau für jede Charge zu erzeugen. Zusätzlich sorgt das Modell für schnelle Reaktionszeiten bei minimaler Rüstzeit vor dem Implantieren einer Charge von Wafern. Ein hoher Durchsatz wird auch mit 9-15 Wafer Platzierung in einem einzigen Prozesszyklus gewährleistet. Das Gerät verfügt über ein kompaktes Rahmendesign mit einer Gesamtgröße von 2,8 m x 3,3 x 2,2 m (LxBxH), was es ideal für den Einbau in moderne Produktionsanlagen macht. Darüber hinaus ist es mit einem digitalen Signalprozessor (DSP) und eingebetteter Systemsoftware ausgestattet, die eine schnelle und zuverlässige Steuerung und Bedienung der Einheit ermöglicht. Um eine zuverlässige und wiederholbare Implantation zu gewährleisten, ist die Maschine in der Lage, die Prozessparameter mit hoher Präzision und Genauigkeit zu steuern. Verfahrensparameter wie Implantatspannung, Strahlenergie und Implantationsdosis sind einstellbar. Als zusätzliches Sicherheitsmerkmal umfasst das Werkzeug auch eine automatische Schutzeinrichtung, die die Hochspannung und den Ionenstrahl dieses Modells bei einem Stromausfall abschaltet und so einen vollständigen Schutz vor Strahlungsschäden garantiert. EATON NOVA NV-GSD-200 ist ein fortschrittliches und zuverlässiges Implantier- und Monitorgerät, das maximale Prozessflexibilität und Wiederholbarkeit bietet. Es ermöglicht die Implantation von Ionen mit sehr hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit, was eine effiziente, kostengünstige und zuverlässige Produktion von fortschrittlichen Halbleiter-ICs ermöglicht. Darüber hinaus garantiert die Maschine durch die fortschrittliche Steuerung und Schutzeinheit Sicherheit und Gesamtqualität aller Implantate.