Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV GSD 200 #293817965 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS NV GSD 200 ist ein Hochleistungs-Ionen-Implantator & -Monitor. Dieses hochmoderne Werkzeug bietet eine präzise, zuverlässige und genaue Implantation von Ionenarten in Halbleitersubstrate. Der GSD 200-Ionen-Implantator wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Materialien von Wafern über Grapheme, Metallfolien, Nanodrähte und andere nanostrukturierte Materialien zu verarbeiten. Der Ionenimplantator verfügt über ein anpassbares Heizsystem, mit dem Benutzer die für eine effiziente Implantation erforderliche Temperatur genau einstellen können. Seine höheren Spannungsfähigkeiten ermöglichen eine einfache Verarbeitung von Nanostrukturen mit größeren Ionenstrahlenergie-Spreads und erzielen so eine höhere Implantationsgenauigkeit. Seine Multi-Zone Faraday Käfig Architektur bietet eine Abschirmung von fremden elektrischen und magnetischen Feldern sowie eine bessere Fokussierung von Ionenstrahlen. Die Monitorfunktionen des GSD 200 bieten eine zuverlässige und genaue Prozesskontrolle für eine bessere Prozesskonsistenz und Überwachung implantierter Dosen. Der Monitor kann subtile Änderungen in den ankommenden Ionenstrahlen erkennen, die punktgenaue Genauigkeit in implantierten Dosen bieten. Die Steueroberfläche des GSD 200 verfügt über eine Vielzahl von erweiterten Funktionen wie eine grafische Benutzeroberfläche, Makroprogrammierung und eine Vielzahl von wiederkehrenden Prozessskripten. Die vollständige Kontrolle des Implantationsprozesses ermöglicht eine höhere Effizienz und schnellere Implantatlieferung. Die GSD 200 bietet darüber hinaus eine überlegene Plasma-Gleichmäßigkeit und niedrige Energiespreizkontrolle. Es hat eine ausgezeichnete Strahl-auf-Zeit-Regelung und Steuerung der Ionenstrahl-Richtung. Es ermöglicht dem Benutzer auch, das System so zu konfigurieren, dass Aberrationen in physikalischer Anordnung oder Vakuumumgebung kompensiert werden. Die GSD 200 bietet dem Anwender eine schlüsselfertige Lösung für eine Vielzahl von Implantationsprozessen. Mit seinem robusten Design, seiner breiten Anwendbarkeit und den erweiterten Steuerungsfunktionen ist die GSD 200 die bevorzugte Wahl für die Ionenimplantation und -überwachung.