Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV GSD 200 #9024429 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9024429
Implanter, 6"
Source head: enhanced source
High voltage bushing: standard
Extraction electrode: yes
Extraction: 80 kV
Source analyzer: triple indexed mass analysis magnet & power supply
RGA resolver: N/A
RGA chamber: N/A
HYT: N/A
MER: N/A
Charge control p/n: 1168890
Post accel elect: N/A
Flag Faraday: standard
In-air wafer handling:
Automatic notch aligner (dual sensor)
6" 4-cassette table
Dummy cassette 25-slot
Vacuum cassette
Load buffer #1
In-air robot
In-vac wafer handling:
In-vac arm
Holder
Unclamp
Elevator
Gryo drive: 2-axis variable implant angle, ± 12 degrees in both axes
Disk drive type: rotary drive
Disk standard disk
Cell controller: Cell 133
Dose controller: real-time patented dose control
SUN workstation:
SUN OS
SPARC 5 (Pri)
SPARC 5 (Sec)
SMIF: N/A
Disk chiller: HX-150
Compressor: Suzuki Shokan C300H
GeF4 (high pressure): N/A
PH3: (SDS) Brooks
BF3: (SDS) unit MFC
XE: N/A
Argon (high pressure): unit MFC
RP1: Ebara 40 x 20
RP2: Ebara 40 x 20
P1: Seiko Seiki H2000C
P2: CTI OB 8
P3: CTI OB 10
IG1: hot cathode ion gauge
IG2: N/A
IG3: hot cathode ion gauge
Currently installed.
EATON NOVA/AXCELIS NV GSD 200 ist ein hochenergetischer Ionenimplantator und -monitor, der zur Herstellung und Überwachung von Ionen für die Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Der NV GDS 200 ist ein zuverlässiges und fortschrittliches Werkzeug, das speziell für die Integration mehrerer Ionenimplantationsprozesse in eine einheitliche Ausrüstung entwickelt wurde und die Produktivität, Genauigkeit und Effizienz maximiert. AXCELIS NV GSD 200 ist mit vier Hochenergie-DC-Ionenpistolen ausgestattet, die jeweils über einen eigenen Verschluss und eine unabhängige Stromversorgung verfügen. Die Pistole bietet einen einstellbaren Strahlenergiebereich von bis zu 190keV, was eine höhere Tonnage und eine größere Palette von Implantatfunktionen ermöglicht. EATON NOVA NV-GSD-200 verfügt zudem über einen leistungsstarken In-situ-Monitor, der Ionenstrahlgleichförmigkeit und Schmutzkonzentration in der Ionenimplantatzone messen kann. Dieser Monitor misst Ionen beliebiger Energie bis 190 keV sowie deren Profil, Strom, Spannung und Steigungswinkel. Darüber hinaus ist EATON NOVA NV GSD 200 mit Softwarefunktionen zur Steuerung von Einstellungen und Auswertung von Daten ausgestattet. Diese Software hilft dabei, den Implantatprozess zu optimieren, die Prozessvariabilität zu reduzieren und ein gleichbleibend hochwertiges Produkt zu liefern. EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD-200 verfügt auch über automatisierte Wartungssysteme, die das System bei Höchstleistung halten. Zu den automatisierten Funktionen gehören eine optische Fehlereinheit, eine automatische Abschaltung der Stromversorgung und eine Sicherheitsmaschine zum Schutz vor Implantatüberhitzung. Insgesamt ist AXCELIS NV-GSD-200 ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug zur Präzisions-Ionenimplantation und -überwachung. Mit seinen vier DC-Ionenpistolen, einem leistungsstarken In-situ-Monitor und anspruchsvollen automatisierten Wartungssystemen ermöglicht NV-GSD-200 hochpräzise Prozesse, reduziert die Prozessvariabilität und garantiert gleichbleibend hochwertige Produkte.
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