Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV GSD 200E #162060 zu verkaufen

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ID: 162060
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
High current ion implanter, 8" With turnkey base Specifications: (25) Slots cassette (4) cassettes capacity ELS source head (2) SUN Workstations VME 177 cell controller (2) SDS gas lines (ASH3 and PH3) (2) HEWLETT-PACKARD Gas lines (BF3 and ARGON) P-SHOWER Electron shower Post acceleration high voltage, 80 KEV Belt type rotary drive AFFINITY Disk chiller Variable implant angle, 2-Axis Real time patented dose controller STP H2000C Source turbo pump Cryo pumps: 0B-8F P2 0B-10F P3 Compressor: 8200/8510 Monitor type: CRT Standard GSD air robot Power: Total energy: 180 KEV 5E11~1E16 Ions/cm2 dose range Throughput: 210 pieces/hour 1996 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV GSD 200E Ion Implanter & Monitor ist ein fortschrittlicher Hochleistungs-Ionen-Implantierer, der hochpräzise großflächige Implantationen ermöglicht, die mit einer Vielzahl von Materialien umgehen können. Es verfügt über ein zuverlässiges, robustes Design und ist mit einer Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, um sicherzustellen, dass der Betrieb immer sicher ist. AXCELIS NV-GSD-200E wird von einer Hochspannungs-Gleichspannungsquelle gespeist und kann emissionsarme Strahlen von bis zu 10 kW Energie erzeugen. Seine präzise Strahlsteuerung und präzise Einstellsysteme sorgen für eine konsistente Dotierungsverteilung und genaue Strahlausrichtung. Das Gerät integriert auch automatisierte Prozesssteuerung und eine komplette Palette von Diagnosen, um den Betrieb zu vereinfachen und eine präzise Leistung zu gewährleisten. Dieser Ionenimplantator ist für die Halbleiterherstellung konzipiert und bietet ein breites Spektrum an Implantationsenergien, eine breite Palette an verfügbaren Strahlströmen und Ionentypen, die für verschiedene Anwendungen verwendet werden können. Es verfügt über High-End-Positionierungsmöglichkeiten für präzise Implantation und eine hochauflösende Strahlstrom-Monitor-Ausrüstung, die Echtzeit-Kontrolle der Implantatdosis bietet. Das Gerät verfügt zudem über ausgeklügelte elektronische Steuerungen, um eine präzise Dosierung und Ausrichtung sowie eine zuverlässige Handhabung von Substraten zu gewährleisten. Das Gerät wird durch eine E-Beam-sichere Abdeckung geschützt, um Schäden an den Implantatmaterialien zu verhindern und die Strahlungssicherheit während des Prozesses zu gewährleisten. EATON NOVA NV-GSD 200E verfügt auch über eine fortschrittliche thermische Steuerung, so dass es auf einer konstanten Temperatur über vorübergehende Stromausfälle und andere Veränderungen der Umgebungsbedingungen zu bleiben. Es hat eine starre und leichte Konstruktion, so dass es ideal für eine Vielzahl von industriellen und wissenschaftlichen Anwendungen. Einfache Wartung und klare Anweisungen machen die GSD 200E einfach zu bedienen und zu warten. Darüber hinaus kann es mit anderen Geräten integriert werden, um einen reibungslosen Arbeitsablauf und maximale Effizienz der Einheit zu gewährleisten. NV GSD-200E Ion Implanter & Monitor ist eine fortschrittliche und zuverlässige Maschine für präzise und großflächige Implantationen mit einer Vielzahl von Energien. Es bietet eine breite Palette von Sicherheitsmerkmalen und kann mit anderen Systemen integriert werden, so dass es eine ideale Wahl für industrielle und wissenschaftliche Anwendungen.
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