Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV GSD 200E #9145264 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS NV GSD 200E ist ein Ionenimplantator und Hochenergiemonitor zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Die GSD- 200E ist eine spezielle Art von Ionenimplantator und Hochenergiemonitor, die bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen und mikroelektronischen Geräten verwendet werden. Dieses Gerät ist ein Pulsinjektions- und Hochenergie-Monitor mit einer überwachten Pulsfähigkeit, die eine präzise und zuverlässige Implantation vieler verschiedener Arten von Ionen ermöglicht. Das GSD- 200E ist so konzipiert, dass es eine hohe Gleichmäßigkeit über den gesamten Wafer bietet und eine präzise und wiederholbare Kontrolle des Implantationsprofils ermöglicht. Dies macht es zu einem idealen Produkt für die Herstellung fortgeschrittener Halbleiterbauelemente. Das Gerät ist mit einem erweiterten Satz von Steuerungen ausgestattet, einschließlich Präzisionsstromsteuerung, Spaltenauswahl, Energiesteuerung, Prozess-Timing und Impulseinstellungen. Diese Einstellungen ermöglichen eine hohe Flexibilität und präzise Steuerung des Implantationsprozesses. Das GSD- 200E verfügt über eine leistungsfähige Ionenquelle und Säulenkombination zur Optimierung der Ionenimplantation. Diese Kombination sorgt für eine hohe Präzision und Genauigkeit beim Implantieren von Ionen in den Zielwafer. Dieses Merkmal gewährleistet auch ein wiederholbares und gleichmäßiges Implantatprofil über den gesamten Wafer. Die GSD- 200E nutzt eine Hochgeschwindigkeits-kontaktlose Signalverarbeitungs- und Leistungsrückkopplungsschaltung zur präzisen Steuerung des Implantationsprozesses. Diese Schaltung reduziert die Ansprechzeit der Geräte und behält die Integrität des Implantatprofils bei. Das integrierte hochpräzise Strommesssystem ermöglicht eine präzise Stromregelung. Das GSD- 200E ist mit einem Echtzeit-Ionensortierungs- und Impedanzanpassungsmodul ausgestattet, um das Endergebnis des Ionenimplantationsprozesses zu optimieren. Dadurch wird sichergestellt, dass nur Ionen der gewünschten Art und des gewünschten Energieniveaus in den Wafer implantiert werden. Die GSD- 200E beinhaltet auch eine Vision-Einheit zur genauen Überwachung des Implantationsprozesses. Diese Maschine besteht aus einer hochauflösenden CCD-Kamera, Lichtquelle, optischen Filtern und Präzisionsbildsoftware. Dieses Vision-Tool ist ein entscheidender Teil, um ein gleichmäßiges Implantatprofil über den gesamten Wafer zu gewährleisten. Insgesamt ist AXCELIS NV-GSD-200E ein leistungsfähiger und zuverlässiger Ionenimplantator und Hochenergiemonitor. Dieses Gerät wurde speziell entwickelt, um eine präzise und wiederholbare Steuerung des Implantationsprozesses mit einer Hochleistungs-Ionenquelle und Säulenkombination zur Optimierung des Endergebnisses zu ermöglichen. Die zusätzlichen Funktionen, wie ein Vision Asset und ein Ionensortiermodul, stellen sicher, dass der Ionenimplantationsprozess genau und effizient ist.