Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV GSD 200E2 #9224295 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9224295
Wafergröße: 8"
High current ion implanter, 8"
180 keV
SMIF System: ASYST LPT2200 SMIF Interface capability
Hardware configuration (Subfab / Auxiliary units):
Cryo compressor
Disk chiller
Vacuum system:
Cryo compressor 1: CTI-8200 (P2)
Cryo compressor 2: CTI-9700 (P3)
Beam line cryo pump 1: OB 8 ( P2 )
Beam line cryo pump 2: OB 10 (P3 )
No process cryo P9
Source pump: STPA2203C ( P1 )
No AMU Turbo pump
Terminal rough pump: EBARA Pump 40x20 ( RP1 )
Endstation rough pump: EBARA Pump 40x20 ( RP2 )
Vacuum controller: HCIG
End station:
(4) Cassettes
Wafer notch alignment: Automatic notch alignment capability with buffer cassette
Dummy wafer: Integrated dummy wafer fill-in capability
Wafer handling system: In-air / In-vacuum high throughput wafer handling system
Particle filter system: Class 1, UPLA filtered wafer handling system
Implant angle capability:
Two axis variable implant angle (+/- 11 deg in two axes)
Quad implant capability
Process disk spindle: GSD Series belt drive process disk
With active cooling and external close loop chiller
Beam monitoring system:
In situ beam potential monitor
Real-time patented dose control
Real-time beam profiler (Single dimension)
Process disk: Silicon coated process disk (UHD Small radius fence)
Process disk cooling interlock
Gas box options:
Modular gas box
(4) String gas box options
High pressure string
(2) SDS String hydride (Arsine and phosphine)
SDS String flouride (Boron trifluoride)
(3) Pressure transducers on SDS string: PSIA
Mass flow controller:
1660 Kit
(3) 1662 Kits
Extraction PS: 0-90 kV
Extraction voltage monitor
Vaporiser
Ion source: Eterna ELS (Extended life source)
Source bushing:
Extended life bushing
Source liner for extended life bushing
N2 Purge: Bypass valve and nitrogen purge
Extraction electrode 34
Source injection kit
AMU System: Triple indexed mass analysis magnet and power supply
Post accel PS: 0 -90 kV
No post accel electrode
Terminal transfomer: Dry transformer
Bias aperture assy
Flag faraday
Charge control technology:
Secondary electron flood gun: PEF
Closed-loop cooling system selection:
Cooling system: Single loop affinity chiller
Control UPS
Main isolation transformer
Abatement system: EGS237 Novapure
Smoke detector
Exhaust flow switch
Water leakage sensor
Light tower
No real time particle detection system
Advanced automation package:
SUN SOLARIS Operator workstation: Hard drive, 21" monitor
SECS I and SECS II Protocols
GEM Interface and ethernet ports
CIM Linked
Missing parts:
Gauss probe / Controller
Arm servo motor assemble
Wafer handler / Gyro controller
Cryo controller interface
Cell controller part
Extraction electrode board
MFC Interface board
Source assembly
Post stack assembly.
EATON NOVA/AXCELIS NV GSD 200E2 ist ein Ionenimplantator und -monitor. Mit diesen Geräten werden Ionen durch eine dünne Membran in das Substrat oder das Zielmaterial implantiert. Entworfen spezifisch für das Hochleistungs-, Hoch-Temperatureinpflanzen ist dieses Gerät für Halbleiter und andere Technologieanwendungen ideal. AXCELIS NV GSD-200E2 verwendet eine Tetrode-Ionenquelle, die Ionen bei Energien im Bereich von 2 bis 200 KeV beschleunigt. Diese Art von Ionenquelle hat eine sehr breite Abdeckung, die eine genaue Positionierung des Ionenstrahls ermöglicht. Das Gerät hat auch eine einstellbare primäre Beschleunigungsspannung, die entsprechend den Bedürfnissen des Zielmaterials geändert werden kann. Dadurch wird sichergestellt, dass das Gerät einen konsistenten Ionenstrahl liefert, der eine möglichst gleichmäßige Implantation ermöglicht. Zusätzlich kann die Ionenquelle eingestellt werden, um eine Reihe von Ionenstrahlenergien zu liefern, wodurch die optimale Implantationstiefe für das Zielmaterial gewährleistet ist. Die Überwachung des Ionenimplantationsprozesses erfolgt durch eine Vielzahl unterschiedlicher Mittel. EATON NOVA NV-GSD 200E2 ist mit einem digitalen Display ausgestattet, das genaue Ablesungen des Ionenstroms, Energieniveaus und mehr ermöglicht. Darüber hinaus ist das Gerät mit einem Ionenstrahl-Datenrekorder ausgestattet, der ein genaues Auslesen aller Ionenimplantationsparameter ermöglicht. Darüber hinaus ist das Gerät in der Lage, die Ionenstrahlparameter in Echtzeit zu analysieren, sodass die Operatoren schnell auf Änderungen der Strahlparameter reagieren können. EATON NOVA NV-GSD 200E-2 wurde entwickelt, um einen sicheren und zuverlässigen Betrieb in einer Vielzahl von Implantationsumgebungen zu gewährleisten. Das Gerät wird mit einem Hochspannungsisolationstransformator hergestellt, der einen gefährlichen elektrischen Schock für den Benutzer verhindert. Darüber hinaus ist die Vorrichtung für die Verwendung einer Niedergasdruckumgebung ausgelegt, die die Sicherheit des Implantationsprozesses gewährleistet. Darüber hinaus ist dieses Gerät mit einem fehlersicheren Auslesesystem ausgestattet, mit dem Bediener Fehler im Implantationsprozess schnell erkennen können. Insgesamt ist EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD 200E-2 ein wirksames und zuverlässiges Ionenimplantationsgerät und -monitor. Mit seiner einstellbaren Ionenquelle, einer Vielzahl von Monitor- und Analyseoptionen und einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen ist dieses Gerät eine ideale Wahl für Halbleiter- und andere Technologieanwendungen.
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