Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV GSD A 160 #293610571 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 293610571
Wafergröße: 6"
Implanter, 6"
Bernas source type
SEIKO SEIKI STP-2000C Turbo pump
(2) EBARA 40X20 Dry pumps
Compressor: CTI 8200 / CTI 8510
NESLAB HX-150 Disk chiller
E-Shower gun
Rotary motor: Belt drive
Flat finder
Without coating disk
Secondly sun
Beamline
Post-Accel
Bias aperature
Cyro pump:
CTI Torr-08
CTI Torr-10
Gas type:
Gas 1: AR/SDS (HP, SDS, External)
Gas 2: ASH3/SDS (HP, SDS, External)
Gas 3: PH3/SDS (HP, SDS, External)
Gas 4: BF3/SDS (HP, SDS, External).
EATON NOVA/AXCELIS NV GSD A 160 ist ein hochmoderner Ionenimplantator und -monitor, der die höchsten Anforderungen an die Herstellung von Halbleitern erfüllt. Es ist die umfassendste in der Industrie erhältliche Implantatausrüstung und bietet im Vergleich zu anderen Systemen zahlreiche Vorteile. Das System bietet eine Hochgeschwindigkeits-16-Bit-analoge Ionenstrommessung, die eine hochauflösende Bildgebung ermöglicht und eine präzise Ionenimplantation und optimierte Implantat-Perimeter (OIP) ermöglicht. AXCELIS NV-GSD-A-160 ist mit einer einstellbaren Hochspannungsplattform und einem 1,87 Meter langen rechteckigen Substrathalter mit 2 skalierbaren Strahlachsen ausgestattet, was eine genaue Dual-Achsen-Implantation ermöglicht. EATON NOVA NV GSD-A-160 bietet zudem ein komplettes Set an Diagnosewerkzeugen und Messgeräten zur Bewertung der Prozessleistung. NV GSD A 160 hat drei Hauptmerkmale: eine hochauflösende Bildaufnahmeeinheit, eine Hochspannungsplattform und eine zweiachsige Implantationsmaschine. Das bildgebende Werkzeug besteht aus einem CCD-Chip mit einer Auflösung von 100 Mikron und einer erweiterten Ecklenkoptik, die eine detaillierte Ionenimplantationsvorschau ermöglicht. Es bietet auch eine OIP-Fähigkeit, die zur genauen Kontrolle von Dosis- und Energieverteilungen verwendet werden kann. Die Hochspannungsplattform kann bis zu 50 Kilo Volt betreiben und bietet eine gute Steuerung bei größeren Ionenstrahlen. Die zweiachsige Implantation ermöglicht die Implantation von vier Achsen von Ionen auf einmal, wobei jeder Satz von vier Achsen die Achsen x, y, z und Theta umfasst. Es kommt auch mit voller Bewegungssteuerung und Prozessüberwachung, die totale Kontrolle über den Implantationsprozess. Schließlich bietet NV-GSD-A-160 auch eine breite Palette von Diagnose- und Überwachungsmöglichkeiten. Es ist mit einem Guardian-Modell ausgestattet, das alle Aspekte der Hardware- und Softwareleistung überwacht, sowie einem Ion Implant Diagnostics (IID) -Werkzeug, das zur Bestimmung der Ionenstrahlkonfiguration und der Energieniveaus verwendet werden kann. Das Gerät bietet auch einen umfassenden Satz von Messinstrumenten und Werkzeugen zur Analyse des Implantationsprozesses. Insgesamt ist AXCELIS NV GSD A 160 das ideale Werkzeug zur Durchführung fortschrittlicher Halbleiterherstellungsprozesse. Mit einem hochauflösenden Bildgebungssystem, einer einstellbaren Hochspannungsplattform, einer zweiachsigen Implantationseinheit und umfassenden Diagnosewerkzeugen bietet es alle Funktionen, die für komplexe Implantate erforderlich sind. EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD-A-160 bietet einen umfassenden Steuerungsansatz, der Ihren Fertigungsvorgängen einen wesentlichen Vorteil verschafft.
Es liegen noch keine Bewertungen vor