Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV-GSD-A-80 #9239611 zu verkaufen

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EATON NOVA / AXCELIS NV-GSD-A-80
Verkauft
ID: 9239611
Wafergröße: 6"
Implanter, 6".
Ein EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD-A-80 ist ein fortschrittliches Hochleistungs-Ionen-Implantier- und Monitorgerät, das zuverlässige Präzisions-Implantationstechnologie und ein hochflexibles, ausgefeiltes Monitorsystem kombiniert. Diese einzigartige Einheit bietet schnellere Zyklen/Sekunde und höhere Genauigkeit als andere Systeme und bietet gleichzeitig mehr Flexibilität im Bereich der Implantate, Anforderungen an Abschirmung und Gaszufuhr. Der Ionenimplantator ist der erste Schritt beim Implantieren von Material in ein Halbleitersubstrat. AXCELIS NV-GSD-A-80 wurde entwickelt, um hochpräzise Niveaus der Ionenimplantation zu Präzisionsmustermerkmalen auf einem Halbleiterwafersubstrat bereitzustellen. Es ist in der Lage, eine Reihe von Dotierstoffen zu implantieren, einschließlich Phosphor, Arsen, Bor, Antimon, Gallium sowie dotierstofffreie Substrate. EATON NOVA NV-GSD-A-80 ist mit einem leistungsstarken Magneten ausgestattet, der eine hohe Kontrolle über den Lichtbogenwinkel und die Geschwindigkeit bei einem bestimmten Energieniveau ermöglicht. Dadurch wird die optimale Implantattiefe und Gleichmäßigkeit über die Oberfläche eines Wafers gewährleistet. Darüber hinaus hilft seine fortschrittliche Kühlmaschine, thermisch verursachte Schäden zu minimieren. Der Ionenimplantator wurde entwickelt, um eine gleichmäßige Verteilung des implantierten Materials durch ein effizientes Operationsverfahren zu schaffen. Es verfügt auch über fortschrittliche magnetische Linsentechnologie für verbesserte Strahlrichtungsgenauigkeit. Die Strahlsteuerung wird von einer Total Radiation Defect Control (TRD) -Software verwaltet. Diese Software wurde entwickelt, damit sich das Implantierwerkzeug schnell an wechselnde Substratzusammensetzungen, Muster und Tiefen anpassen kann. Der Ion Implment Monitor ist in der Lage, Implantatparameter und Substrate in Echtzeit zu überwachen, um sicherzustellen, dass die Anlage zuverlässige, sichere und wiederholbare Implantate liefert. Der Monitor verwendet fortschrittliche Detektoren, um eine breite Palette von Parametern zu messen, einschließlich Dotierungsstufen, Anisotropie, thermischer Einfluss und Dicke. Dies hilft bei der Analyse von Implantatergebnissen und hilft bei der Gewährleistung der Lithographie-Genauigkeit. NV-GSD-A-80 ist ein zuverlässiges und hocheffizientes Ionenimplantat- und Monitormodell. Es bietet eine Reihe von Funktionen und Technologien wie Präzisions-Implantattechnologie, Magnetlinsen, TRD-Software und erweiterte Überwachungsfunktionen, die es ermöglichen, Hochleistungs-Implantate bei hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit effizient zu produzieren. Dadurch ist es eine ideale Wahl für Halbleiterherstellungsanwendungen.
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