Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV GSD-HE #9163722 zu verkaufen
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ID: 9163722
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
High energy implanter, 8"
Wafer type: Notch
Vaccum system:
Cryo compressor: CTI 9600, CTI 8500
Beamline cryo pump 1: OB8 (P2)
Beamline cryo pump 2: OBIO (P3)
AMU Turbo pump: TMP1000 (P8)
Terminal rough pump: EBARA
LINAC Rough pump: EBARA
Endstation rough pump: EBARA
Vacuum controller: HCIG
IG3: Ion gauge
Endstation info:
(4) Cassettes
Dummy wafer: Integrated "Dummy wafer" Fill-In capability
Wafer handling system: In-Air / In-Vacuum high throughput
Particle filter system: Class 1, UPLA Filtered
Implant angle capability: Two axis variable implant angle (+/-11 deg in two axes) (Quad)
Process disk spindle: GSD series process disk (installed )
Beam monitoring system: Real-time patented Dose Control
Process Disk: Non silicon coated process disk
Process disk cooling interlock: Yes
Terminal info:
Gas box option: Modular gas box / Four string gas box options
Extraction PS: 90KV
Extraction voltage monitor: Yes
Ion source: ELS Type
Extraction electrode: (3) Axis extraction electrode (Sen type)
AMU system: Triple indexed mass analysis magnet and power supply
Injector faraday: Injector flag faraday
Dry transformer
LINAC and FEM:
(10) Power supplies: 3kW 13.56 MHz
(10) High energy resonator cavitites and electrodes
(5) Upgraded quadrupole lens assemblies and power supplies
Resolving faraday: Yes
Double indexed final energy magnet (FEM) and power supply: Yes
Charge control technology (SEF - Secondary electron flood): No
SVR: No
Closed-Loop cooling system selection:
Cooling system: Sen type
Disk chiller: Sen type
General Info:
Main isolation transformer: Yes
Smoke detector: Yes
Exhaust flow switch: Yes
Light tower: Yes
Currently de-installed
2000 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV GSD-HE ist ein Ionen-Implantator und -Monitor sowie eine voll integrierte Ausrüstung zur Implantation von Dotierungsionen in Halbleitersubstrate. Dieses vielseitige System verwendet Hightech-Überwachungssysteme, um Präzision und Genauigkeit zu gewährleisten und eine breite Palette von Implantationsprofilen zu ermöglichen. Es wurde entwickelt, um die fortschrittlichsten Technologieanforderungen für hochmoderne Implantationsprojekte zu erfüllen, mit der Fähigkeit, gleichbleibend hochwertigen Ersatz zu bieten. AXCELIS NV GSD HE arbeitet in zwei Modi, I = V und gepulster Hochspannung. Die optimalen Bedingungen für jede Anwendung werden durch die rauscharme Vorverstärkung und die Strahlpositionsüberwachung in EATON NOVA NV-GSD HE bestimmt. Diese Monitore verwenden eine Vielzahl von rückkopplungsgesteuerten Geräten, darunter Strahlstromüberwachungen, Hochspannungsnetzteile und einen Ionenmassenanalysator. Dies ermöglicht eine vollständige Kontrolle über Implantationsprofile mit ausgezeichneter Strahlstabilität und Strahlsteuerung für die meisten Wafer-Frontend-Operationen. Das Gerät verwendet eine Vielzahl von erweiterten Programmieroptionen, um die Implantation genau zu steuern. Diese Programmierfunktionen umfassen: einstellbare Strahlrichtung, Strom, Spannung, Vorspannung und Energieauswahl - sowie die Einbindung von präzisen hochreinen Ionenquellen. Die Ionenquelle wird separat erworben. Es umfasst auch digitales Timing und programmierbare Analog-Digital-Konvertierung, die eine schnelle und einfache Kalibrierung von Verarbeitungsprotokollen ermöglicht. EATON NOVA NV-GSD-HE Maschine ist mit Blick auf Sicherheit, mit einem umfassenden elektronischen Gesundheitsüberwachungswerkzeug und Notabschaltung entwickelt, die Personal vor Strahlung oder anderen Gefahren schützen. Die Anlage verfügt außerdem über Top-of-the-Line-Lade- und Ionenquellenstabilität sowie Strahlstörungsreduktionstechnologien. Die integrierte Diagnose ermöglicht es Benutzern, Verarbeitungsfehler zu beheben und Probleme schnell und einfach zu identifizieren. EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD ER liefert rechtzeitige und genaue Daten, so dass Benutzer Implantationsergebnisse ermitteln und bei Bedarf Anpassungen vornehmen können. Seine erweiterten Programmierfähigkeiten garantieren hochwertige Implantationsergebnisse und seine Sicherheitsmerkmale gewährleisten die Sicherheit des Personals. Dieses Modell ist die perfekte Wahl für jede Implantationsaufgabe, mit seiner Kombination aus hoher Leistung und Zuverlässigkeit.
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