Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV GSDIII LE #9083650 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS NV GSDIII LE Ionenimplantator und Monitor ist ein ausgeklügeltes Werkzeug, das hilft, exakt kontrollierte Dosen von Ionen in Materialien zu liefern, um ihre physikalischen Eigenschaften zu ändern. Dieses Verfahren wird üblicherweise in der Halbleiterindustrie zur Geräteherstellung eingesetzt. AXCELIS NV GSDIII LE verwendet eine Ionenquelle, um Ionen zu erzeugen. Diese Ionen werden dann beschleunigt und massenanalysiert, um eine Energieausbreitung entsprechend der gewünschten Implantatdosis und Energie zu erzeugen. Darüber hinaus ist der GSDIII LE mit einem Mehrkammerdesign ausgelegt, das die Präzision und Genauigkeit während des Implantationsprozesses weiter verbessert. Der GSDIII LE ist mit modernsten Überwachungsinstrumenten ausgestattet. Diese Monitore sind so konzipiert, dass sie minimale Änderungen in Temperatur, Spannung und Strom erkennen - was alle die Qualität des Ionenimplantationsprozesses beeinflussen kann. Die analogen und digitalen Steuerungssysteme sind präzise und präzise, um sicherzustellen, dass alle Prozesse genau so ablaufen, wie sie beabsichtigt sind. Neben der überlegenen Kontrolle und Genauigkeit bietet EATON NOVA NV GSDIII LE auch einstellbare Dosisraten. Damit kann sie den Anforderungen verschiedener Halbleiteranwendungen voll gerecht werden. Die breite Palette der Dosisraten ermöglicht optimal zugeschnittene Implantationspläne für verschiedene Chip-Designs. Darüber hinaus ist dieses System durch den modularen Aufbau leicht an die individuellen Bedürfnisse des Benutzers anpassbar. NV GSDIII LE verfügt auch über eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, um den Schutz der Benutzer zu gewährleisten. Dazu gehören Schutzschilde zur Reduzierung der Laser- und Ionenstrahlbelichtung sowie eine Vielzahl von Sicherheitsverriegelungen. Darüber hinaus umfasst die Konstruktion auch eine Wartungsabzugshaube, um die durch den Ionenimplantationsprozess erzeugten Dämpfe abzugeben. EATON NOVA/AXCELIS NV GSDIII LE ist ein zuverlässiges und umfassendes Werkzeug zur Ionenimplantation und -überwachung. Seine ausgeklügelten Steuerungssysteme, einstellbaren Dosisraten und Sicherheitsmerkmale machen es zu einer idealen Wahl für verschiedene Halbleiterbauelemente. Darüber hinaus ist der modulare Aufbau und die einfache Anpassung ein vielseitiges Gerät für viele Anwendungen.