Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS NV GSDIII LE #9083651 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS NV GSDIII LE ist ein Ionenimplantationswerkzeug und -monitor, das in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Das Gerät bietet eine präzise Kontrolle über Implantationsparameter, um hohe Genauigkeitsergebnisse zu erzielen. Das Gerät ist in der Lage, Strahlströme, Energie, Implantatarten und Tiefenprofile genau zu steuern, um optimale Strukturen für Geräteanwendungen zu erzeugen. Das System besteht aus einem Hochspannungsnetzteil, Dämpfer, Spreader und Separatormodulen sowie einem Zielkäfig, Gasverteilereinheit, HF-Generator, Verschluss, Monitor und Temperatur/Druck-Regler. Dies gewährleistet eine optimale Umgebung für Implantationsprozesse. Die Stromversorgung ist in der Lage, bis zu 1.000 kW Leistung mit einer breiten Spannungsregelung zu liefern. Dies ermöglicht eine schnelle Beschleunigung des Ionenstrahls und eine präzise Steuerung der Implantatoberfläche. Die Dämpfer- und Spreizmodule steuern die Eigenschaften des kommenden Strahls und helfen, die Prozessvariabilität infolge unkontrollierbarer Quellinstabilität zu minimieren. Das Separatormodul entfernt unerwünschte Doppel-Ionen effektiv und reduziert die Implantatmaterialkontamination. Der Zielkäfig hält die zu implantierende Vorrichtung und besteht aus einem starren Material, das hohen Temperaturen und Drücken standhalten kann. Die Gasverteilmaschine bietet eine gleichmäßige Umgebung für den Ionenimplantatprozess. Der HF-Generator steuert den Transport von schweren Ionen von der Quelle zum Ziel. Das Verschlussmodul passt die Lichtstärke im Implantatbereich an und minimiert die Störung eines Implantationsprozesses. Der Monitor überwacht kontinuierlich den implantierten Wafer, um eine ordnungsgemäße Leistung zu gewährleisten. Der Temperatur-/Druckregler kann eine präzise Temperatur und einen präzisen Druck in der Zielumgebung aufrechterhalten, was optimale Implantationsergebnisse ermöglicht. AXCELIS NV GSDIII LE ist ein leistungsstarkes und genaues Werkzeug zur Ionenimplantation und -überwachung. Dieses in der Halbleiterindustrie verwendete Gerät ist in der Lage, mit minimaler Unterbrechung stets zuverlässige Ergebnisse zu liefern. Die präzise Steuerung der Implantatparameter gewährleistet eine erfolgreiche Gerätestruktur für die Verarbeitung. Dieses Tool ermöglicht einen zuverlässigen und effizienten Implantationsprozess, der zur Steigerung der Produktivität und Qualität beiträgt.