Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS Optima HDxT #9115399 zu verkaufen

ID: 9115399
Weinlese: 2011
Ion implanter, 12" SRA, PFG Source Manipulator XT (EVAL) Bushing source flange adapter Source turbo exhaust line Chamber liner Spare beam tunnel Roughing pumps: EDWARDS IGX100L EDWARDS iGX100M EDWARDS iGX600M Cryo pumps: (2) BROOKS 320FE BROOKS 250FE Turbo pumps: TP1: EDWARDS STP-XA2703CV TP2: EDWARDS STP-A1303CV Chillers: AFFINITY J Chiller GWN-ZRMK-BE55CBS6 AFFINITY F-Series FWA-032K-DD19CBD4 (2) BROOKS IS-1000 Cryo compressors 2011 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS Optima HDxT ist ein hochleistungsfähiger, hochzuverlässiger Ionenimplantator und -monitor. Es wurde entwickelt, um eine konsistente und wiederholbare Implantation von Ionen in Halbleitersubstrate wie Siliziumwafer bereitzustellen. Der hohe Durchsatz dieser Ausrüstung unterstützt Halbleiterverarbeitungsfunktionen, die für viele technologisch fortschrittliche Anwendungen entscheidend sind. Es bietet eine ausgezeichnete Flexibilität für die Verarbeitung von Substraten verschiedener Größen und Materialien und gewährleistet durch sein fortschrittliches Ionenquellendesign ein hohes Maß an Wiederholbarkeit und Genauigkeit im Implantationsprozess. AXCELIS Optima HDxT verwendet ein bipolares Ionenquellen-Design, mit dem das System für die Verwendung mit einer Vielzahl von Ionenarten, einschließlich As, P, B und anderen, angepasst werden kann. Es unterstützt auch eine Vielzahl von Energien, einschließlich Niedrigenergie-Implantation sowie High Energy Ion Implantation (HEII). Mit Hilfe einer leistungsstarken Strahltransporteinheit ist die Maschine in der Lage, hochpräzise Implantationen zu erzeugen sowie eine hohe Gleichmäßigkeit im resultierenden Substrat zu erhalten. Um präzise Implantationsgenauigkeit zu gewährleisten, verfügt EATON NOVA Optima HDxT auch über erweiterte Temperaturregelungsfunktionen. Optima HDxT verfügt auch über erweiterte Prozesssteuerungs- und Diagnosesysteme sowie erweiterte integrierte Analyse- und Berichtserzeugungsfunktionen. Mit seiner fortschrittlichen Prozesssteuerung können Benutzer ihre Prozessparameter während des gesamten Implantatprozesses einfach überwachen und verwalten, einschließlich Ionenimplantationsenergie, Strom, Strahlfleckgröße usw. Darüber hinaus unterstützt das Tool auch umfassende Kalibrierungs- und Diagnoseroutinen, die beispiellose Datenerfassungs- und Analysefunktionen ermöglichen. Darüber hinaus umfasst EATON NOVA/AXCELIS Optima HDxT auch ein erweitertes integriertes Monitoring-Asset, das es Anwendern ermöglicht, Parameter während jeder Implantat-Prozessschritte zu überwachen und anzupassen. Dieses Modell trägt nicht nur zur präzisen Implantationsgenauigkeit bei, sondern ermöglicht es Anwendern, den Prozess auf einfache Weise für die Bedürfnisse einer bestimmten Anwendung zu optimieren. Schließlich enthält die Ausrüstung auch eine umfassende Reihe von integrierten Sicherheitsmerkmalen, die dazu beitragen, die Sicherheit und Zuverlässigkeit des Prozesses zu gewährleisten. Zusammenfassend ist AXCELIS Optima HDxT ein hochleistungsfähiger, hochzuverlässiger Ionenimplantator und -monitor. Es unterstützt eine Vielzahl von Ionenarten und -energien, verfügt über erweiterte Temperaturkontroll- und Prozesskontrollsysteme und nutzt einen umfassenden Satz integrierter Diagnose- und Sicherheitsfunktionen. EATON NOVA Optima HDxT bietet durch sein fortschrittliches Monitorsystem und benutzerfreundliche Kalibrierungs- und Testroutinen zuverlässige Implantationsgenauigkeit, Wiederholbarkeit und Einheitlichkeit für eine breite Palette von Halbleiterverarbeitungsanwendungen.
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