Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS Paradigm XE #9241171 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS Paradigm XE ist ein fortschrittlicher Ionenimplantator und Monitor, der Ionenimplantations- und Ascheprozesse für eine breite Palette von Halbleiter- und verwandten Anwendungen unterstützt. Mit innovativer Technologie bietet AXCELIS Paradigm XE eine Reihe von Funktionen, die eine genaue und konsistente Ionenimplantation gewährleisten. EATON NOVA Paradigm XE bietet durch seine fortschrittliche Kontaminationskontrolltechnologie ein effizientes Im-Plantation-System. Das hocheffiziente Filtrationsmodul nutzt die Partikelhaltetechnologie, um die Sauberkeit des Plasmas und der Prozessgase zu gewährleisten, indem sowohl Partikel als auch Restgasverunreinigungen effizient aus der Prozesskammer entfernt werden. Die ausgeklügelte, zylindrische Plasmaquelle liefert eine erhöhte Ionenstrahlgleichförmigkeit und liefert einen hohen, linearen Strom, der die präzise Steuerung von Verunreinigungsprofilen ermöglicht. Das fortschrittliche Paradigma XE verfügt auch über fortschrittliche Computersteuerungstechnologie für maximale Genauigkeit der Strahlüberlappung sowie die präzise Platzierung von Verunreinigungen im Substratmaterial. Die flexiblen Konfigurationskomponenten von EATON NOVA/AXCELIS Paradigm XE garantieren die Kompatibilität mit verschiedenen Arten von Waferkonfigurationen sowie einer Vielzahl weiterer Komponenten, darunter Raumabweiser mit variabler Achse, Abisolierstangen, Endstufenlinearisierer und Dc-Magnetronquellen. Darüber hinaus ermöglicht das integrierte Diagnosepaket eine schnelle Einrichtung der Implantationsparameter und eine vollständige Kontrolle des Geräts. Das fortschrittliche AXCELIS Paradigm XE bietet auch eine Werkstoffverarbeitungs-Monitoring-Suite, die eine umfangreiche Aufzeichnung von Substratwiderstand und Gleichmäßigkeit beinhaltet. Es bietet auch automatisierte Datenerfassung und Graphengenerierung, um mehrere Ionenimplantationsparameter im Laufe der Zeit zu verfolgen. EATON NOVA Paradigm XE bietet ein effizientes Implantationssystem für eine Vielzahl von Ionenimplantationen und verwandten Prozessen. Seine innovative Technologie trägt dazu bei, die Genauigkeit und Effizienz der Ausrüstung zu maximieren und gleichzeitig saubere Prozesskammern mit verbesserter Strahlgleichförmigkeit und präziser Kontrolle von Verunreinigungsprofilen bereitzustellen. Darüber hinaus sorgen die flexiblen Konfigurationskomponenten und die Überwachungssuite für Kompatibilität und Überwachung der Daten, um eine maximale Implantationsgenauigkeit zu gewährleisten.