Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS Paradigm XE #9241296 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS Paradigm XE ist ein Ionenimplantator und -monitor, der entwickelt wurde, um eine präzise und genaue Ionenimplantation sicherzustellen. AXCELIS Paradigm XE ist ein Hochleistungs-Ionen-Implantierer und -Monitor, der eine optimale Flexibilität und Effizienz für eine Vielzahl von Halbleiterprozessen bietet. Es ist ideal für die Produktionssteuerung bei 300 mm Wafergrößen, mit einer maximalen Beschleunigungsspannung von bis zu 80 keV. EATON NOVA Paradigm XE verfügt über eine einzigartige Mehrstrahlausrüstung zur gleichmäßigen Verteilung von Partikeln über die Oberflächen von Wafern. Dies wird durch die Verwendung von mindestens acht einzelnen Implantatpistolenstrahlen erreicht. Jeder dieser Strahlen verfügt über einen separaten Antriebsmechanismus, der es dem Benutzer ermöglicht, sowohl die Strahlintensität als auch die Abtastgeschwindigkeit bei voller Reichweiteneinstellbarkeit genau zu steuern. Darüber hinaus stehen mit diesem System eine breite Palette fortschrittlicher Prozesssteuerungen zur Verfügung, wie die Ultraschrittstrahlsteuerung. Paradigm XE ist mit einer Vielzahl von Sicherheits- und Umweltmerkmalen ausgestattet. Das Gerät wurde entwickelt, um die strengsten Standards in Bezug auf die Partikelemission zu erfüllen und entspricht den aktuellen Industriestandards. Das Gerät nutzt auch erweiterte Filtration und begrenzte Quelle Interaktionsmechanismen. Schlüssel zur Leistung und zum Erfolg von EATON NOVA/AXCELIS Paradigma XE ist das integrierte Elektronikpaket. Dieses Paket umfasst eine fortgeschrittene wiederholbare Implantationssteuerung sowie eine Reihe von Überwachungs- und optischen Systemen. Die integrierte Elektronentransportmaschine wurde entwickelt, um die effizientesten Ergebnisse zu gewährleisten, während das optische Überwachungswerkzeug Echtzeit-Feedback an den Benutzer liefert. Insgesamt ist AXCELIS Paradigm XE ein fortschrittlicher Ionenimplantator und -monitor, der für eine optimale Leistung entwickelt wurde. Durch den Einsatz der neuesten Partikelstrahltechnologie sorgt das Gerät für konsistente und genaue Ergebnisse und bietet eine breite Palette von Prozesssteuerungsoptionen. Das integrierte Elektronikpaket sorgt für zuverlässige und wiederholbare Implantationsleistung, während die fortschrittlichen Filtrationsmechanismen für niedrige Partikelemissionen sorgen. Kurz gesagt, EATON NOVA Paradigm XE ist eine ideale Hochleistungslösung für Halbleiteranwendungen.