Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS Paradigm XE #9290830 zu verkaufen

EATON NOVA/AXCELIS Paradigm XE ist ein Ionenimplantator und -monitor, der für den Einsatz in der Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Es ist eine leistungsstarke, kostengünstige Ausrüstung, die niederenergetische und mittelenergetische Ionenstrahlen mit hochauflösenden Ionenstrahl-Überwachungsfunktionen kombiniert. Das System wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Funktionen im Prozess der Ionenimplantation auszuführen, einschließlich Ionenstrahl-Gleichmäßigkeitsmessungen, Strahlüberwachung, Gerätestrommessung, Temperaturregelung und Messung der Implantationstiefe. AXCELIS Paradigm XE Ionenimplantator verfügt über eine fortschrittliche Strahlsteuereinheit, die eine präzise Partikelplatzierung und genaue Kontrolle der Implantationsparameter ermöglicht. Die Maschine hat einen maximalen Strahlstrom von über 1000 A/cm2, mit einstellbaren Abtastlängen für eine gleichmäßige großflächige Implantation. Damit eignet sich das Werkzeug für eine Reihe von Anwendungen, darunter ultraseichte Verbindungsstellen und Massenimplantation. Der Motor von EATON NOVA Paradigm XE besteht aus einer Ionenquelle, einem elektrostatischen Beschleuniger, einem Ionisator, Strahlfiltern und einer Strahlüberwachung. Die Ionenquelle erzeugt Ionen unterschiedlichster Energien, darunter z.B. Arsen und Phosphor bei Energien bis 500 KeV. Ionen werden durch den elektrostatischen Beschleuniger geführt, wo sie beschleunigt und anschließend in einem Strahl mit genauer Größe und Form vom Ionisator emittiert werden. Das Strahlüberwachungsmodell ermöglicht die Optimierung von Implantationsparametern, um gleichmäßige Implantationstiefen zu erreichen. Das Gerät ist mit einem fortschrittlichen Digital Monitor System (DMS) ausgestattet, das eine Echtzeit-Überwachung aller implantierten Wafer sowie eine Echtzeitanalyse der Implantationsdaten ermöglicht. Das DMS bietet genaue Overlays, die den Vergleich verschiedener Implantationsschritte oder Wafer-Chargen ermöglichen. Das Gerät bietet darüber hinaus eine verbesserte Konfigurierbarkeit, die es Benutzern ermöglicht, die Maschine mit benutzerdefinierten Strahlscans oder sogar mehreren Strahlen einzurichten. Paradigm XE ist ein ideales Werkzeug für die Implantation aller Arten von Halbleiterbauelementen. Das Tool bietet hochauflösende, energiereiche und mittelenergetische Ionenstrahlen mit verbesserten Strahlsteuerungsfunktionen. Die Anlage ist in der Lage, eine Vielzahl von Funktionen im Prozess der Ionenimplantation auszuführen, einschließlich Ionenstrahl-Gleichförmigkeitsmessung, Strahlüberwachung, Gerätestrommessung, Temperaturregelung und Messung der Implantationstiefe. Das digitale Monitormodell bietet eine Echtzeit-Überwachung aller implantierten Wafer und eine gründliche Analyse der Implantationsdaten.