Gebraucht KLA / TENCOR / THERMA-WAVE ThermaProbe 420 #9315382 zu verkaufen

KLA/TENCOR/THERMA-WAVE ThermaProbe 420 ist ein fortschrittlicher, vielseitiger Ionenimplantator und -monitor, der entwickelt wurde, um eine saubere, genaue Verarbeitung von Halbleitermaterial zu gewährleisten. Das Gerät wurde entwickelt, um den Anforderungen hochpräziser Anwendungen wie der Chipherstellung sowie anspruchsvolleren Anwendungen wie MEMS und der Nanotechnologieherstellung gerecht zu werden. Diese Multifunktionsmaschine ist in der Lage, Ionen in vordefinierte Bereiche von Halbleitersubstraten zu implantieren und den Prozess genau zu überwachen. Im Zentrum der KLA ThermaProbe 420 steht eine hochwertige Ionenquelle, die einzeln geladene Ionen mit hoher räumlicher Genauigkeit und gleichmäßiger Dosisrate produziert. Die Ionenquelle besteht aus einem Port, der so konfiguriert werden kann, dass positive oder negative Ionen erzeugt werden. Die Ionen werden durch eine Kombination aus elektrischen, chemischen und thermischen Prozessen erzeugt, die eine saubere, gleichmäßige Implantation gewährleisten. Das Gerät wird durch fortschrittliche Software und Hardware weiter verbessert. Mit integrierten Diagnose- und Überwachungsfunktionen ist es in der Lage, die Dosis und Anreicherung von Ionen genau zu steuern, um die gewünschten Eigenschaften im Substrat zu erreichen. Es enthält auch ein Emissionsspektrumanalysesystem, das die verschiedenen im Substrat vorhandenen Elemente aufzeichnet und anzeigt, so dass Ingenieure Parameter für eine bessere Kontrolle anpassen können. TENCOR THERMA-PROBE 420 ist hochflexibel und bietet programmierbare Quellparameter wie Energiebereich, Impulslänge und -frequenz, Stromdichte, Ätzbedingungen, Strahlbreite und -intensität und mehr. Auf diese Weise kann der Anwender den Implantationsvorgang exakt anpassen, um die gewünschten Eigenschaften innerhalb des Substrats zu erzeugen oder einen bestimmten Prozess zu simulieren. Die Vorrichtung weist ferner einen Massenfilter auf, der die Einstellung von Ionenenergien ermöglicht und Ionen verschiedener Massen innerhalb des Implantatstrahls trennt. Diese Trennung ermöglicht die Kontrolle der Dicke und Gleichmäßigkeit der implantierten Schicht sowie die Verfeinerung der Ionendosis für präzise Ergebnisse. THERMA-PROBE 420 ermöglicht eine einfache und präzise Anwendung ohne Einbußen bei der Präzision. Es ist ein außergewöhnliches Werkzeug für jede Halbleiteranwendung sowie spezialisierte Nischenanwendungen. Mit hoher Genauigkeit, detaillierter Prozesskontrolle und Sicherheitsmechanismen ist es eine zuverlässige Plattform für ein breites Anwendungsspektrum.