Gebraucht NISSIN Exceed 2000 AH #293647879 zu verkaufen

NISSIN Exceed 2000 AH ist ein Ionenimplantator und Monitor, der eine überlegene Kontrolle der Dotierstoffdiffusion und Genauigkeit der Halbleiterherstellung bietet. Es wurde entwickelt, um eine überlegene Dopinggenauigkeit und Prozessleistung zu gewährleisten und gleichzeitig die Kosten zu senken. NISSIN EXCEED 2000AH vereint fortschrittliche Ionen-Implantationstechnologie und NISSIN Process Monitor Integration, um die höchsten Niveaus der Ionen-Implantation Genauigkeit und Zuverlässigkeit zur Verfügung zu stellen. Überschreiten Sie 2000 AH zeigt eine Hochspannung, Singlequelle-Ion implanter und ein umfassendes Monitorpaket für die umfassende Prozesssteuerung. Es verfügt über ein verbessertes Verschlussdesign, das eine einfache Implantations- und Endpunkterkennungsgenauigkeit ermöglicht. Eine integrierte Ionenquelle ermöglicht eine genaue Implantation von Ionen mit reichlich Ionenstrahlfluenz, gleichmäßigen vertikalen Profilen und extrem geringen Verunreinigungen. EXCEED 2000AH enthält auch eine verbesserte Strahlüberwachungseinrichtung, die eine überlegene Prozesssteuerung und Verhinderung von Ionenstrahl-Fehlleitung ermöglicht. NISSIN Exceed 2000 AH verfügt über ein verbessertes Strahlfokussierungssystem und einen ultrabreiten Frequenzbereich zur verbesserten Prozesssteuerung. NISSIN EXCEED 2000AH bietet auch eine verbesserte Kontrolle und Überwachung aller wichtigen Parameter des Implantationszyklus, mit der Fähigkeit, Implantatpunkte zu definieren, Konzentrationen zu überwachen und Endpunkte schnell zu erkennen. Darüber hinaus verwendet Exceed 2000 AH mehrere Detektoren, einschließlich Thermoelement- und Synchrotrondetektoren, um maximale Genauigkeiten bei der Dotierungssteuerung zu erreichen. EXCEED 2000AH beinhaltet NISSIN FPM (Fourier Processor Monitor), das eine genaue Implantation von Dotierstoffen in Halbleitersubstrate gewährleistet. Das FPM verfügt auch über eine breite Palette von Prozessfunktionen, so dass zuverlässige und wiederholbare Implantateigenschaften mit minimalem Aufwand erzielt werden können, wie einheitliche vertikale Profile, Ionenstrahlfluenzen und Synthese von genauen Dosisprofilen. NISSIN Exceed 2000 AH bietet eine Vielzahl von Funktionen, um eine optimale Prozesskontrolle zu gewährleisten, die Leistung der Einheiten zu verbessern und Kosten zu senken. Dazu gehören verbesserte Oberflächendeckung, verbesserte Überwachung und Steuerung (M&C), erweiterte Analysefunktionen, Ferndiagnose und -überwachung sowie eine verbesserte Maschinensteuerung sowie eine vollautomatisierte Steuerung der Wafersubstrattemperatur und des Ionenstrahlstroms. Darüber hinaus ist NISSIN EXCEED 2000AH so konzipiert, dass es einfach in bestehende Prozessleitsysteme integriert werden kann, um eine verbesserte Prozessleistung zu gewährleisten. Insgesamt bietet Exceed 2000 AH eine breite Palette fortschrittlicher Funktionen, um eine überlegene Ionenimplantationsgenauigkeit und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Es bietet eine effektive, kostengünstige Lösung für eine enge Prozesssteuerung, die zu verbesserten Ausbeuten und reduzierten Halbleiterdefekten führt. Mit seiner automatisierten Steuerung, verbesserter Genauigkeit und verbesserter Überwachung ist EXCEED 2000AH eine ideale Lösung für die Halbleiterherstellung.