Gebraucht NISSIN NH-20SR #293804781 zu verkaufen
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NISSIN NH-20SR ist ein hochmoderner Ionenimplantator und -monitor, der die Integration von Ionen in Halbleitermaterialien erleichtert. Es verfügt über eine elektrische Sektorquelle mit variablem Winkel, die eine höhere Genauigkeit bei der Manipulation der Ionenstrahlen beim Durchlaufen des Plasmas ermöglicht und die genaue Platzierung und Steuerung von Ionen in der nanoskaligen Umgebung ermöglicht. NISSIN NH 20SR ist mit drei unabhängigen Steuerungssystemen ausgestattet: der Hochspannungssteuerung, dem Strahlanalysesystem und der Vakuumsensoreinheit. Diese Systeme sorgen für Leistung und Steuerung des Ionenstrahls, so dass Ionen in der gewünschten Tiefe präzise in das leitende Substrat implantiert werden können. Die Hochspannungssteuermaschine dient zur Steuerung der kinetischen Energie des Ionenstrahls sowie zur Erzeugung großer elektrischer Felder, die die Ionen beschleunigen und fokussieren. Das Strahlanalyse-Tool wird verwendet, um die Stabilität und Leistung des Strahls zu untersuchen, so dass NH-20SR die Strahlcharakteristik während der Ionenimplantation kontinuierlich überwachen können. Schließlich ist der Vakuumsensor der Vorrichtung in der Lage, Partikel oder Verunreinigungen im Strahl und in der Umgebung zu detektieren und den Bedienern Sicherheitsinformationen zu liefern. NH 20SR bietet einen hervorragenden Durchsatz und eine hervorragende Genauigkeit und ist somit ideal für Serienumgebungen in hohen Stückzahlen geeignet. Das Gerät ist mit einer mehrstrahligen, aber einzigen Wafer-Implantationsfunktion ausgestattet, die eine hohe Ionenimplantationsgleichförmigkeit und eine geringe Verschmutzung des Wafersubstrats ermöglicht. Darüber hinaus verfügt NISSIN NH-20SR über eine automatisierte Stromquellenverwaltungsfunktion, die eine einfache, on-the-fly Anpassung der Geräteeinstellungen ermöglicht und mit intelligenten Steuerungstools zur Konfiguration von Prozessparametern ausgestattet ist. NISSIN NH 20SR ist in der Halbleiterindustrie für hochpräzise Implantationsoperationen weit verbreitet. Die fortschrittlichen Eigenschaften, die hervorragende Leistung und die hervorragenden Sicherheitsstandards machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für praktisch jeden Implantationsprozess.
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