Gebraucht NISSIN NH-20SR8 #293642812 zu verkaufen
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NISSIN NH-20SR8 ist eine hochentwickelte Ionenimplantat- und Monitorausrüstung, die eine präzise und qualitativ hochwertige Implantation von Ionen in eine breite Palette von Substraten ermöglicht. Dieses System ist in der Lage, feste, variable oder gemischte Substrate großflächig mit hohen Strömen und Dosen zu versorgen. Es verfügt über einen automatisierten Substratmanipulator (ASM) und ist in der Lage, Ionen unterschiedlicher Energien in verschiedenen Dosisbereichen und bei unterschiedlichen Strahlgeschwindigkeiten zur präzisen Steuerung von Implantationsprofilen zu implantieren. Leistungsmäßig hat NH-20SR8 einen großen Strahlstrombereich von 4-20mA, mit einer maximalen Spannungsfähigkeit von 300 kV. Die Strahlstromstabilisierungszeit beträgt ≤3 Millisekunden, mit einem ionischen Energiebereich von 0.01-200keV. Das Gerät kann bis zu 6-Zoll-Wafer aufnehmen und ist außerdem in der Lage, die Substrate präzise zu manipulieren, um optimale Ergebnisse zu erzielen. NISSIN NH-20SR8 ist auch in einen hochmodernen Ionenmonitor integriert, der zur Steuerung des Ionenstrahlprofils nützlich ist und die implantierten Ionen genau detektieren kann. Der Monitor misst die Dosis und die aktuellen Werte der implantierten Ionen genau und zeigt sie in Echtzeit auf dem Bildschirm an. Es verfügt auch über voreingestellte Programme, um eine Vielzahl von Implantations- und Überwachungsoptionen bereitzustellen. NH-20SR8 ist robust, zuverlässig und bietet eine präzise Steuerung der Implantationsprozesse. Es verfügt über eingebaute Sicherheitsmerkmale mit einem Verriegelungsmechanismus, der eine Fehlbedienung oder Beschädigung der Maschine unter unsicheren Bedingungen verhindert. Darüber hinaus ist es mit einer PC/SPS-Schnittstelle zur einfachen Integration in industrielle Automatisierungssysteme ausgestattet. Das Werkzeug kann auch programmiert werden, um mit anderen externen Geräten wie Kühlgeräten, Vakuumpumpen und Antrieben zu verbinden. Insgesamt ist NISSIN NH-20SR8 ein leistungsstarker und vielseitiger Ionenimplantator und -monitor. Es verfügt über erweiterte Funktionen, die die präzise Steuerung von Implantationsprofilen und Überwachungsgenauigkeit mit robusten Sicherheits- und Integrationsmerkmalen gewährleisten. Damit ist es eine ideale Wahl für die Mittel- und Großserienfertigung verschiedener Substrate.
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