Gebraucht NOVA T4500 #9233674 zu verkaufen

NOVA T4500 ist ein von Implant Sciences Inc. entwickelter Ionenimplantator und -monitor. Es ist ein industrieller Implantierer und Monitor, der für die Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. T4500 ist in der Lage, energiereiche Ionen mit Energien im Bereich von 10 bis 5500 keV und Dosisraten bis zu 4x106 A/cm2 zu produzieren. Das Gerät hat einen gesamten Ionenstrahlstrombereich zwischen 1 und 4 mA. NOVA T4500 ist ein kontinuierlicher Durchflussionen-Implantierer, was bedeutet, dass die Ionen an einem Ende kontinuierlich in das System eingespeist und dann aus dem anderen extrahiert werden. Dadurch entfällt die Notwendigkeit, das Gerät kontinuierlich zu stoppen und zu starten, was den Durchsatz verbessert und die Wartungskosten senkt. Die Maschine hat zwei Achsen der Strahlstromregelung und zwei getrennte Bereiche der Ionenenergiesteuerung. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung des Ionenstrahlprofils, wodurch das Werkzeug eine sehr gleichmäßige Ionenimplantation erzeugen kann. T4500 ist mit fortschrittlicher ionenoptischer und elektronischer Hardware ausgestattet, die eine extrem hohe Gleichmäßigkeit in Ionenstrom und Energie über die gesamte Breite der Kammer erzeugt. Das Gerät ist auch mit hochentwickelten ionenoptischen Profilierungssoftware ausgestattet, die die Einstellung des Ionenstrahlprofils ermöglicht, um eine genaue Kontrolle über die Form und Größe des Strahls zu gewährleisten. NOVA T4500 ist zudem mit einem umfassenden Überwachungsmodell ausgestattet, das die Verfolgung und Analyse von Ionenimplantationsparametern in Echtzeit ermöglicht. Das Überwachungsgerät umfasst Funktionen wie Strahlstrom und Energie, Gesamtdosis, Dosisgleichmäßigkeit, Leckstrom und Temperaturdaten. Dies ermöglicht eine präzise und konsequente Kontrolle des Implantationsprozesses und stellt sicher, dass alle Implantate konsistent und von höchster Qualität sind. Neben den Implantations- und Überwachungsfunktionen ist T4500 auch mit fortschrittlichen Tools zur Prozesssteuerung und Datenanalyse ausgestattet. Diese Werkzeuge ermöglichen die Analyse des Implantationsprozesses in Echtzeit und liefern detaillierte Berichte über den Implantationsprozess, mit dem Änderungen der Prozessparameter mit Änderungen der Implantate kombiniert und korreliert werden können. NOVA T4500 ist ein fortschrittlicher und äußerst zuverlässiger Ionenimplantator und -monitor, der für den Einsatz in anspruchsvollsten industriellen Umgebungen entwickelt wurde. Die Kombination aus fortschrittlicher optischer und elektronischer Ionenhardware, Überwachungsfunktionen und Prozesssteuerungs- und Datenanalysetools macht es zu einer idealen Lösung für industrielle Ionenimplantationsprozesse.