Gebraucht SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-HC3 #9131090 zu verkaufen

SEN NV-GDS-HC3 ist ein dreiachsiger Ionenimplantator und -monitor, der von SUMITOMO EATON NOVA Corporation entwickelt wurde. Es soll Ionen präzise in Halbleitermaterialien implantieren und überwachen. Die Ionenstrahlquelle des NV-GDS-HC3 besteht aus einer Mehrstrahl-Ionenkanone, die einen breiten Ionenstrahl oder getrennte Ionenstrahlen für Mehrstrahl-Injektionen bilden kann. Die Mehrstrahlformation setzt sich aus Elektronenkanone, abgetrennter Eingangsmassenspektrometrie und Ionenbeschleunigung zusammen. Die Ionenpistole soll hochkonzentrierte reine Ionenstrahlen liefern, die ausgezeichnete Halbleitereigenschaften aufweisen. Der NV-GDS-HC3 wird mit einer Mehrzone ausgestattet, die Massenfilterausrüstung in Umlauf wiedersetzt, die verwendet wird, um gewünschte Ionen von der Ionsquelle zu trennen. Das rezirkulierende Massenfiltersystem besteht aus einem die Ionenenergie und Ladungen trennenden Gasmassenfilter und einem rezirkulierenden Massenfilter, der Verunreinigungen und unerwünschte Elemente entfernt. Um den Ionenimplantationsprozess genau zu überwachen, misst die Sensing Unit des NV-GDS-HC3 die Implantationsposition, Ionenarten und Ionenkonzentrationen. Es verwendet optische Überwachungstechniken, um die hochgenauen dreidimensionalen Parameter der Implantatziele zu bestimmen. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer Datenerfassungsfunktion ausgestattet, die alle Implantations- und Überwachungsdaten zur Analyse und Aufzeichnung erfasst. Das NV-GDS-HC3 verfügt auch über das Beam Limiter Tool (BLS), das Strahlbreite, Form und Elektrpotential des Ionenstrahls genau steuern kann, um seine Gleichmäßigkeit für eine verbesserte Effizienz zu optimieren. Die BLS ermöglicht es dem Benutzer, die Parameter des Strahls während des Prozesses auf erhöhte Genauigkeit einzustellen. Das Center Drive Asset des NV-GDS-HC3 bietet eine hochauflösende symmetrische Bewegung in jede Richtung, die es dem Benutzer ermöglicht, komplexe Muster zu implantieren, die im Vergleich zu anderen Implantationssystemen eine höhere Genauigkeit erfordern. Das Modell ermöglicht auch eine maximale bipolare Leistung von 2mC/cm, die für großflächige Implantate für große Mengen integrierter Schaltungen geeignet ist. Zusammenfassend ist SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GDS-HC3 ein dreiachsiger Ionenimplantator und -monitor, der für den Einsatz in der Halbleiterindustrie zur präzisen Implantation und Überwachung entwickelt wurde. Die Mehrstrahl-Ionenpistole, die Massenfilterausrüstung, das Sensorsystem, die Strahlbegrenzungseinheit und die Zentralantriebsmaschine bieten eine umfassende Lösung für die anspruchsvollsten Implantationsanforderungen.