Gebraucht SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-LE #9181516 zu verkaufen

SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-LE ist eine Ionenimplantations- und Überwachungseinrichtung zur Kontrolle und Überwachung der Eigenschaften von Ionenimplantationsprozessen. Mit seinen fortschrittlichen Prozesskontrollfunktionen ist das System in der Lage, das höchste Niveau für Wafer-Gleichmäßigkeit, höchste Ausbeute und Produktqualität und Zuverlässigkeit zu erreichen. Das Gerät bietet auch integrierte Komplettlösungen für die Aufrechterhaltung der Wafertemperatur-Gleichmäßigkeit, Minimierung von thermischen Schäden und Verhinderung von Schäden an der Leiterplatte. Die Maschine besteht aus einem Implantierer, einem Monitor und einem Controller. Der Implantierer ist der Hauptbestandteil des Werkzeugs und besteht aus einer Ionenquelle, Strahlformungseinheiten, Target und Implantatbasis. Es liefert den notwendigen Ionenstrahl und hilft, die gewünschten Eigenschaften für die Wafer-Implantation zu erreichen. Die Monitoreinheit besteht aus hochempfindlichen Sensoren, die Ionenstrahlintensität, Spannungs- und Stromwerte messen und eine präzise Steuerung des Implantationsprozesses ermöglichen. Schließlich stellt die Steuerung der gesamten Anlage die für den automatischen Betrieb des Prozesses erforderlichen Steuersignale zur Verfügung. Das Modell ist in der Lage, verschiedene Implantationsprozesse durchzuführen, einschließlich Bor, Arsen, Phosphor, Silizium, Germanium, Aluminium und Galliumimplantationen. Darüber hinaus kann es sowohl für ein- als auch mehrstufige Implantationsprozesse verwendet werden, wodurch die gleichzeitige Implantation mehrerer Ionenarten in denselben Wafer ermöglicht wird. Darüber hinaus können die Geräte für Trench- und Near-Field-Implantate verwendet werden. SEN NV-GSD-LE ist mit einem integrierten Temperaturregelungssystem ausgestattet, das die Gleichmäßigkeit des Wafers gewährleistet und thermische Schäden minimiert. Dank seiner hohen Genauigkeit (± 3 ° C) und der Verfügbarkeit unterschiedlicher Temperaturregeleinstellungen eignet es sich ideal zum Implantieren von Si-basierten und nicht-Si-basierten Materialien. Darüber hinaus ist die Einheit auch in der Lage, die Beschleunigung und Verzögerung der Partikel zu steuern sowie die notwendigen chemischen Vorprozesse bereitzustellen. SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-LE bietet auch mehrere Sicherheitsmaßnahmen, um eine sichere Arbeitsumgebung zu gewährleisten. Dies beinhaltet einen Notabschalter bei Anomalien sowie einen gasdichten schalldichten Raum, der sicherstellt, dass der Implantatprozess mit geringem Geräuschpegel durchgeführt wird. Abschließend bietet NV-GSD-LE ein umfassendes Leistungsspektrum zur Automatisierung und Steuerung der Prozesse der Ionenimplantation und -überwachung. Durch hohe Genauigkeit, kurze Taktzeiten und genaue Überwachung ist die Maschine eine ideale Lösung für eine Vielzahl von Anwendungen.