Gebraucht SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-MC3 #9144965 zu verkaufen

SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-MC3 ist ein Ionenimplantator und Überwachungsgerät, das für die fortschrittliche Halbleiterverarbeitung verwendet wird. Es ist für die Implantation mit niedrigem Strom und hoher Auflösung konzipiert und kann auf die Bedürfnisse einer Vielzahl von Prozessschritten und Ionenquellen zugeschnitten werden. Das System integriert eine Reihe von Funktionen wie Temperatur- und Druckregelung, Energiemodulation, Strahlblockierung und Stromintegration, um die besten Prozessergebnisse zu gewährleisten. SEN NV-GSD-MC3 ist ein 20-cm-Ionenimplantator mit einer 70-cm-Kontrollkammer, der eine breite Palette von Implantatparametern und Implementierungstechniken ermöglicht. Es kann verwendet werden, um sowohl flache und tiefe Kreuzung Implantation zu schaffen, sowie die Bereitstellung von Low-Current hochauflösende Implantation. Die Einheit enthält einen digitalen Ionenmonitor, um eine genaue Dosierung und Eindämmung von Ionen zu gewährleisten. Neben seiner Fähigkeit, eine breite Palette von Implantatparametern und -techniken zu erstellen, kommt die Maschine auch mit einem Hochspannungsnetzteil, integriertem Massenflussregler und Temperatur- und Druckregelwerkzeug ausgestattet. Dies ermöglicht höchste Prozessstabilität und -genauigkeit sowie den optimalen Implantat-Implantationsprozess. Hohe Gleichmäßigkeit und kontrollierbare Energieverteilungen über den Wafer werden durch die Implementierung einer Vielzahl von Strahlblockiertechniken, wie Strahlaufspaltung oder Streuung, aufrechterhalten. Die Anlage verwendet auch fortschrittliche Algorithmen, um die homogene Temperaturverteilung im Plasma zu steuern, was zur Verbesserung der Prozessstabilität und Produktivität beiträgt. Darüber hinaus verfügt das Modell über die Möglichkeit, den Strom aus mehreren Quellen zu integrieren sowie die Implantatstrahlen mit einem digitalen Ionenmonitor zu überwachen und zu analysieren. SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-MC3 ist eine fortschrittliche Implantationsausrüstung, die für fortschrittliche Implantatleistung und -kontrolle entwickelt wurde. Es eignet sich für eine Reihe von Anwendungen, einschließlich flacher und tiefer Kreuzungsimplantation, sowie hochauflösende Implantation mit niedrigem Strom. Das System wurde entwickelt, um eine optimale Prozessstabilität und Genauigkeit mit einer Vielzahl von Strahlblockiertechniken, Temperatur- und Druckregelung und Stromintegration zu gewährleisten.