Gebraucht SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSDIII-180 #9244723 zu verkaufen

SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSDIII-180
ID: 9244723
Wafergröße: 8"
Implanter, 8".
SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GSDIII-180 ist ein Ionenimplantator und -monitor für Wafer-Level-Doping. Es bietet präzise, wiederholbare Ionenimplantationsparameter für eine Vielzahl von Substratmaterialien. SEN NV-GSDIII-180 umfasst eine computergesteuerte Ionenquelle, zwei unabhängige Waffenleitungssteuerungen, eine integrierte Monitorausrüstung und ein Hochvakuumsystem. SUMITOMO EATON NOVA NV GSDIII 180 verwendet eine computergestützte Ionenquelle, die hochgenaue Ionenstrahlen mit optimaler Querschnittsgröße und -form erzeugen kann. Die Ionenquelle ist in der Lage, verschiedene Bereiche des Wafers abzutasten. Es kann auch verschiedene Strahlbereiche on-the-fly für eine optimale Implantation impulsen. Die beiden unabhängigen Waffenlinien bieten eine präzise Steuerung des Implantationsprozesses. Diese Linien können für eine Vielzahl von Parametern, einschließlich Spotgröße und Energie, sowie Substrattemperatur eingestellt werden. Die integrierte Monitoreinheit von SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV GSDIII 180 liefert eine Echtzeit-Rückkopplung des Strahlprofils und der Strahlenergie beim Implantieren des Wafers. Diese Maschine ermöglicht es Benutzern auch, den Prozess zu überwachen, wie er sich bewegt, so dass eine optimale Leistung gewährleistet ist. Ein Hochvakuumwerkzeug sorgt für überlegene Kammerstabilität während des Ionenimplantationsprozesses. Diese Anlage wurde entwickelt, um ein Vakuum von weniger als 1x10-6 Torr aufrechtzuerhalten. Es schützt auch vor Verunreinigungen oder Verschlechterungen der Kammer während der Implantation. NV GSDIII 180 ist eine ideale Lösung für Wafer-Level-Dotierung. Die computergesteuerte Ionenquelle, zwei unabhängige Geschützleitungen, das integrierte Monitormodell und die Hochvakuumausrüstung machen es zu einer idealen Lösung für die Erstellung präziser, wiederholbarer ionischer Implantationsparameter. Kunden können sich auf die Genauigkeit, Präzision und Wiederholbarkeit des Ionenimplantierers und -monitors von SEN NV GSDIII 180 verlassen.
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