Gebraucht SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV GSDIII-LE #293746345 zu verkaufen

SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV GSDIII-LE (GSD3-LE) ist ein fortschrittlicher Ionenimplantator und -monitor, der kürzlich von Sumitomo Electric und Eaton Corporation entwickelt wurde. Diese Ausrüstung eignet sich am besten für hochpräzise, niederschwellige Implantationsprozesse. Es nutzt anspruchsvolle fortschrittliche Technologien wie die Beschleunigung der Multigitter-Zusammensetzung, die Strahlsteuerung und die hochmoderne Ionenoptik. Die Vielseitigkeit von GSD3-LE macht es ideal für viele Anwendungen wie SEMI-Spezifikationsprofile, Implantat-Prozessentwicklung und -produktion, fortschrittliche Implantat-Prozesskontrolle und ultrapräzise Implantation. Unter Verwendung einer speziell entwickelten Ionenquelle kann es Strahlenergien bis zu 30KV erreichen. Die Quelle kann auch mit Ar- oder SF6-Gasen betrieben werden, um Quellenausfallzeiten für Wartungsarbeiten zu minimieren. Das GSD3-LE ermöglicht eine breite Palette von Implantaten mit geringer Genauigkeit und zuverlässiger Strahlsteuerung. Seine proprietäre Laserübertragungsquelle bietet High-End-Abscheideraten, um eine präzise Steuerung der Strahlenergie und -richtung über den gesamten Scanbereich zu erreichen. Der Multi-Grid-Beschleunigungsabschnitt sorgt für ein stabilisiertes und lineares Implantatprofil und damit für hochwertige Implantate. Die integrierte Anlagensteuerung ermöglicht eine einfache und nahtlose programmierbare Steuerung des gesamten Implantatprozesses. Seine hohe Genauigkeit Strahlstrom Überwachung jedes Implantats mit einer automatischen Wafer Hold-Off-Funktionen kann dazu beitragen, die Prozessvariabilität zu reduzieren. Das GSD3-LE verfügt zudem über eine Strahldiagnose, die es Ingenieuren und Technikern ermöglicht, das genaue Verhalten des Strahls während des mittleren Prozesses sowie beim Start/Stopp von Implantationsprozessen zu beobachten, zu untersuchen und zu analysieren. Zusammenfassend ist SEN NV GSDIII-LE ein fortschrittlicher Ionenimplantator & Monitor, der sich für hochpräzise, niederschwellige Implantationsprozesse eignet. Die ausgeklügelten Technologien und das Design ermöglichen eine präzise Strahlsteuerung und hochgenaue Implantatprofile. Mit seiner integrierten Anlagensteuerung und den Strahldiagnosefunktionen bietet es eine zuverlässige und einfach zu bedienende Plattform für die Entwicklung und Produktion von Implantaten.